[实用新型]冷氢化硅粉放空系统

说明书

本实用新型公开了一种冷氢化硅粉放空系统，包括硅粉储罐、放空过滤器和缓冲罐，所述硅粉储罐的出口与缓冲罐的入口连通，所述缓冲罐的出口与放空过滤器的入口连通，所述缓冲罐上设置压力传感器，所述缓冲罐的入口处设置第一电磁阀，所述缓冲罐的出口处设置第二电磁阀，所述压力传感器采集的信号传输至控制器后，控制器根据接收的信号控制第一电磁阀和第二电磁阀的开闭。以实现减少对陶瓷滤芯损坏，降低更换成本，确保清洁生产的优点。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产领域，具体地，涉及一种冷氢化硅粉放空系统。

背景技术

目前，在多晶硅生产中大多企业都采用改良西门子法，即一个闭路循环系统，所以必须有一个冷氢化系统消耗四氯化硅生产三氯氢硅，冷氢化生产过程控制压力在2.5mpa以上，必须消耗的原料其中之一就有硅粉，而硅粉加入流化床中需要高压氢气推动硅粉进入硫化床，添加完硅粉后硅粉储罐中的高压氢气需要放空，而氢气中会带有硅粉需要放空过滤器进行过滤，而高压氢气对放空过滤器的陶瓷滤芯有很大的冲击力损坏滤芯。

现有技术如图1所示，硅粉放到硅粉储罐中，打开输送氢气的阀门，保证管道畅通，打开氢气冲压阀门冲压达到预定压力，打开下料阀门给流化床补充硅粉，补充完硅粉后关闭所有阀门，打开硅粉放空阀门进行放空，而氢气中会带有硅粉需要过滤器进行过滤进行排放。而高压氢气放空由于压差太大造成流速过快，对放空过滤器中的陶瓷滤芯有很大的冲击力损坏滤芯，如果滤芯坏会造成粉尘污染。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，针对上述问题，提出一种冷氢化硅粉放空系统，以实现减少对陶瓷滤芯损坏，降低更换成本，确保清洁生产的优点。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种冷氢化硅粉放空系统，包括硅粉储罐、放空过滤器和缓冲罐，所述硅粉储罐的出口与缓冲罐的入口连通，所述缓冲罐的出口与放空过滤器的入口连通，所述缓冲罐上设置压力传感器，所述缓冲罐的入口处设置第一电磁阀，所述缓冲罐的出口处设置第二电磁阀，所述压力传感器采集的信号传输至控制器后，控制器根据接收的信号控制第一电磁阀和第二电磁阀的开闭。

进一步地，所述缓冲罐的横截面为6.2m²。

进一步地，当压力传感器测量的缓冲罐内的压力达到0.3mpa时，控制器控制第二电磁阀开启。

本实用新型的技术方案具有以下有益效果：

本实用新型的技术方案通过在硅粉储罐和放空过滤器添加缓冲罐，以减小氢气放空压差降低氢气流速，从而达到减少对陶瓷滤芯损坏，降低更换成本，确保清洁生产的目的。

附图说明

图1为现有技术的冷氢化硅粉放空系统的结构示意图；

图2为本实用新型实施例所述的冷氢化硅粉放空系统的结构示意图。

结合附图，本实用新型实施例中附图标记如下：

1-硅粉储罐；2-放空过滤器；3-缓冲罐。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图2所示，一种冷氢化硅粉放空系统，包括硅粉储罐、放空过滤器和缓冲罐，硅粉储罐的出口与缓冲罐的入口连通，缓冲罐的出口与放空过滤器的入口连通，缓冲罐上设置压力传感器，缓冲罐的入口处设置第一电磁阀，缓冲罐的出口处设置第二电磁阀，压力传感器采集的信号传输至控制器后，控制器根据接收的信号控制第一电磁阀和第二电磁阀的开闭。

其中，缓冲罐的横截面为6.2m²。