[实用新型]新型高压溶剂萃取池

权利要求书

1.一种新型高压溶剂萃取池，其特征在于：包括萃取池本体、分别盖设于所述萃取池本体两端的池帽、设于所述萃取池本体端部的筛板及装配于所述池帽且用于连通所述萃取池本体和外界的外接头，所述萃取池本体包括两端开口的萃取池体、设于所述萃取池体两端面且贴设于所述筛板远离所述池帽一侧的滤纸及设于所述萃取池体两端外表面的外螺纹，所述池帽包括池帽本体、由所述池帽本体周缘往远离所述池帽本体中心轴线方向延伸形成的第一延伸体、由所述第一延伸体周缘往远离所述池帽本体中心轴线方向延伸形成的第二延伸体及由所述第二延伸体周缘往远离所述池帽本体中心轴线方向延伸形成的第三延伸体，所述筛板位于所述池帽本体与所述第一延伸体围成的空间内，所述外接头设于所述池帽本体，所述第三延伸体内表面设有内螺纹，所述内螺纹与所述外螺纹配合将所述池帽与所述萃取池本体固定连接。

2.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述池帽本体、所述第一延伸体、所述第二延伸体及所述第三延伸体为一体结构。

3.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述新型高压溶剂萃取池还包括内密封圈，所述筛板、所述第一延伸体、所述第二延伸体及所述萃取池体共同围合形成一收容空间，所述内密封圈设于所述收容空间内。

4.根据权利要求3所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述内密封圈包括内密封圈本体及由所述内密封圈本体弯折延伸形成的内密封圈弯折体。

5.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述池帽本体包括设于其中心处的塞孔，所述塞孔包括由所述池帽本体远离所述萃取池本体的表面向靠近所述萃取池本体的表面凹陷形成的凹槽、由所述凹槽的底面向靠近所述萃取池本体方向凹陷形成的沉孔及连通所述沉孔和所述萃取池本体的通孔，沿所述池帽至所述萃取池本体方向，所述凹槽直径逐渐变小。

6.根据权利要求5所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述新型高压溶剂萃取池还包括设于所述沉孔内的外密封圈，所述外接头抵接所述沉孔，所述外密封圈密封所述外接头与所述沉孔抵接处。

7.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述外螺纹与所述内螺纹为短螺纹。

8.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述萃取池本体还包括由所述萃取池体外表面向所述萃取池体内表面凹陷形成的平台及由所述萃取池体内表面围绕形成的流体通道，所述平台设有两个且间隔对应设置于所述萃取池体外表面中间部分。

9.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述萃取池体及所述池帽均为不锈钢材料制成。

10.根据权利要求1所述的新型高压溶剂萃取池，其特征在于：所述池帽外表面设有防滑网纹。