[实用新型]一种隐形眼镜清洗机构有效

专利信息
申请号: 201721461434.7 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN207473230U 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 孙碧霞 申请(专利权)人: 苏州三个臭皮匠生物科技有限公司
主分类号: G02C13/00 分类号: G02C13/00
代理公司: 苏州市新苏专利事务所有限公司 32221 代理人: 杨晓东;孙怀香
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电极 隐形眼镜清洗 清洗机构 正极 本实用新型 电路板 负极 板状电极 弧形板状 平板状 容置槽 隐形眼镜 隐形眼镜镜片 电源电连接 电泳技术 盛装液体 移动效率 电连接 还原 电源 清洗 移动 应用
【说明书】:

本实用新型公开了一种隐形眼镜清洗机构,所述清洗机构应用在基于电泳技术的隐形眼镜清洗装置中,所述清洗机构包括:电源;电路板,与电源电连接;电极,为两个以上,所述电极的一端与电路板电连接;容置槽,用于盛装液体和放置隐形眼镜镜片,所述电极的另一端位于容置槽内;其特征在于:电极包括正极和负极,至少一个电极是平板状或弧形板状的板状电极。本实用新型所公开的隐形眼镜清洗机构,电极包括正极和负极,所述清洗机构的至少一个电极是平板状或弧形板状的板状电极,可以增加电极工作面积,增加沉淀物移动总数和移动效率,更好地对隐形眼镜进行清洗还原。

技术领域

本实用新型涉及一种隐形眼镜清洗技术领域,特别涉及一种隐形眼镜清洗机构。

背景技术

有相当多近视的人们,为了美观或行动方便,选择使用隐形眼镜,也有些不近视但爱美的人们选择使用多种颜色的美瞳。然而,隐形眼镜或美瞳长期使用后会造成蛋白质等沉淀物沉积,使镜片失去透氧性能,配戴后会造成眼角膜的损伤,因此,当隐形眼镜配戴一定时间后,必须加以清洗,以供再次使用。

目前隐形眼镜最常使用的清洗方式,是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗盒的两个容器内,分别注入清洁药水,再以手指揉搓,以清除隐形眼镜镜片上的灰尘、蛋白质等沉淀物沉积、粘液、油渍等秽物,维持镜片的透氧率。然而,上述清洗方式容易因手指的不洁而无法达到良好的效果,且在清洁的过程中,相当耗费时间。

目前市面上还存在一些隐形眼镜清洗装置,采用超声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式,然而:1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上,镜片易受物理破坏,且对电路与频率之间的匹配性要求较高,生产成本也较高;2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌,添加清洁剂使该镜片的粘着物分离,加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性;3)紫外线对细菌有强大的杀伤力,臭氧则是一种良好的氧化剂及消毒剂,但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。

现有技术还公开了一种隐形眼镜清洗装置,清洗装置的工作原理基于电泳技术:在用于放置隐形眼镜镜片的容置槽两侧设置有两个电极,在电势差的作用下,带有电荷的蛋白质或其它沉积物向其中一个电极移动,进而实现沉积蛋白或其它沉积物与隐形眼镜镜片的分离;这种清洗装置使隐形眼镜在不受物理性破坏的同时,实现了良好的清洁效果。

中国专利公开号为CN204927570U的实用新型专利,公开了一种隐形眼镜还原仪,所述隐形眼镜还原仪包括清洗机构,所述清洁机构包括电源、电路板、导电片以及电极;所述电路板设置于电子元件室内,并与电源电连接;所述导电片为两个、均设置于电子元件室内,并且其中一端均与电路板电连接;所述电极为两个、分别贯穿设置于两个容置槽的底部、并与所述容置槽底部相互密封连接,所述电极的顶端均外露于容置槽内、底端均外露于电子元件室,所述电极的底端与导电片的另一端电连接。但是现有技术中的电极设置于两个容置槽中,通电环境下,带有电荷的蛋白质或其它沉积物从其中一个容置槽的电极向另一个容置槽的电极移动。现有技术主要存在以下几个问题:1、电极面积有限,影响沉淀物移动总数和移动效率,进而影响清洗效果与清洗效率。2、两边放镜片,清洗液也是相通的,如果其中一个镜片有病菌感染等情况,会造成另外一个镜片的交叉感染。3、清洗较多镜片时要带多套清洗工具,携带、保存、使用不方便。本专利对该现有技术作出进一步改进。

实用新型内容

本实用新型目的是:克服现有技术存在的不足,解决现有技术中存在的问题,提供一种隐形眼镜清洗机构,所述清洗机构的至少一个电极是平板状或弧形板状的板状电极,可以增加电极工作面积,增加沉淀物移动总数和移动效率,更好地对隐形眼镜进行清洗还原。

本实用新型的技术方案为:

一种隐形眼镜清洗机构,所述清洗机构应用在基于电泳技术的隐形眼镜清洗装置中,所述清洗机构包括:

电源;

电路板,与电源电连接;

电极,为两个以上,所述电极的一端与电路板电连接;

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