[实用新型]一种瓷砖多排布置抛光磨头的抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种瓷砖多排布置抛光磨头的抛光装置，包括瓷砖进给系统，瓷砖进给系统安装在机架上，瓷砖进给系统驱动瓷砖沿瓷砖的长度方向进给，抛光装置还包括横梁系统和磨头系统，横梁系统安装在机架上，横梁系统包括至少两个沿瓷砖进给方向平行设置的横梁，磨头系统至少为两组，每组磨头系统安装在一个横梁上，述磨头系统上设置若干磨头用于抛光瓷砖。本实用新型将瓷砖表面沿瓷砖的宽度方向均分为若干个抛光区域，每排磨头抛光瓷砖的一个抛光区域。经上述装置抛光之后，能大幅度提高磨头的有效覆盖率，解决现有技术工艺流程占地面积大，使用设备多、磨具消耗大、生产成本高、漏抛、加工均匀性差等技术缺陷和难题。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖领域，具体涉及一种瓷砖多排布置抛光磨头的抛光装置。

背景技术

现有的瓷砖行业中大多以小规格尺寸的瓷砖为主，但是由于小规格的瓷砖造成的污染较大，对环境造成的影响很大，所以研发生产大尺寸的瓷砖产品非常重要，而且规格上的突破，瓷砖实际铺贴时可以随意切割多种尺寸，应用灵活多变，适用范围更广；同时大尺寸意味着更少的接缝，铺贴效果完整气派，凸显居室大气高端，缝隙的减少也更方便清洁打理。

现有加工陶瓷大板的抛光工艺和装备，就是简单的将瓷砖抛光设备加宽，以应对来势凶猛的大板时代。现有抛光工艺还是在采用传统的抛光机，砖坯在传动皮带上输送的同时，磨头21高速旋转并随横梁一起摆动，安装于磨头上的磨块一方面绕摆杆座摆动，使其与砖坯表面呈线接触，同时随磨盘公转，随横梁摆动。多个运动的叠加对砖坯表面形成连续的研磨加工，最终使砖坯获得平整光滑的表面。

单个磨头在瓷砖表面的加工轨迹如图1所示。瓷砖13向右传输，磨头21在瓷砖13表面往复摆动，在加工陶瓷大板时，传统瓷砖抛光工艺和装备就会凸显其缺陷，单个磨头21对砖面不能进行有效覆盖，漏抛的区域越来越大，需要配置更多的磨头21来增加覆盖，但同时也导致砖坯中间部分过度抛光、生产线的长度及装机功率不断增加。

砖面加宽后，由于横梁摆动行程加长，摆动的频次及线速度不可能无限提高，从而导致单线产量降低、砖坯漏抛和过磨的矛盾也更加突出。除了会产生漏抛之外，还会产生瓷砖13表面抛光不均匀的的缺陷。现有的瓷砖抛光方式是横梁摆动式抛光方式，这种抛光方式，造成瓷砖13表面抛光的不均匀性。沿瓷砖13的宽度方向瓷砖13中间被抛光的次数大于边缘处，而且在磨头21在摆动过程中，一定会在瓷砖13中间区域形成一个抛光均匀带。

如图2所示，瓷砖13中间区域的抛光量多，两边的瓷砖13抛光量少。而且从边缘到中间是一个逐渐增加的过程。瓷砖13中间的抛光相对均匀一些。将抛光后的瓷砖13沿宽度方向划分为三个区域：第一不均匀区域22、中间均匀区域23和第二不均匀区域24，第一不均匀区域22、第二不均匀区域24是瓷砖的边缘不均匀区域，这两个区域瓷砖抛光量少，越往边缘，抛光次数越少。抛光不均匀。中间均匀区域23位于瓷砖13的中间区域，该区域抛光次数多，抛光相对均匀。中间均匀区域23是整个瓷砖中抛光最好的区域。

从图3看出，抛光后的瓷砖表面呈现一个平底锅的形貌，中间低，两边高。在抛光大板时，由于摆动幅度加长，摆动频次被迫降低，漏抛和过磨现象更加突出，同一目数的磨块有时需配置四个以上的磨头才能保证一次覆盖，大板表面的也无法消除不均匀性抛光造成的平底锅的形貌。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型的目的是提供一种瓷砖多排布置抛光磨头的抛光装置，通过科学设计的瓷质抛光砖砖面加工设备，既提高了生产率和产品质量，又有效降低了能耗。为实现上述实用新型目的，本实用新型采取的技术方案如下：

一种瓷砖多排布置抛光磨头的抛光装置，包括瓷砖进给系统，所述瓷砖进给系统安装在机架上，所述瓷砖进给系统驱动瓷砖沿瓷砖的长度方向进给，抛光装置还包括横梁系统和磨头系统，所述横梁系统安装在机架上，所述横梁系统包括至少两个沿瓷砖进给方向平行设置的横梁，所述磨头系统至少为两组，每组所述磨头系统安装在一个所述横梁上，所述磨头系统上设置若干磨头用于抛光瓷砖。