[实用新型]一种使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置有效
| 申请号： | 201721384604.6 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN207586458U | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 戴立伟;赵云飞 | 申请（专利权）人： | 武汉锐科光纤激光技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 唐正玉 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 均匀相位 掩模板 光敏光纤 本实用新型 线性变化 衰减片 精密调节架 啁啾光栅 光纤夹 线性衰减片 材料成本 均匀变化 明暗相间 平台搭建 光栅 调节架 镜片夹 条纹 光强 制作 平行 采购 | ||
【权利要求书】：
1.一种使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置，包括一套线性变化的衰减片(102)、一个均匀相位掩模板Uniform Mask(103)、一个镜片夹持调节架(104)、一个光纤夹持精密调节架，其特征在于：一套线性变化的衰减片(102)和一个Uniform Mask(103)分别固定在一个镜片夹持调节架(104)上，且线性变化的衰减片(102)与Uniform Mask(103)平行，光敏光纤(101)固定在光纤夹持精密调节架，且光敏光纤(101)与Uniform Mask之间形成一定夹角。
2.根据权利要求1所述的使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置，其特征在于：所述的光纤夹持精密调节架能精准调节光敏光纤与Uniform Mask之间的夹角，并准确读出角度值。
3.根据权利要求1所述的使用均匀相位掩模板制作啁啾光栅的装置，其特征在于：所述的一套线性变化的衰减片，所有衰减片的出射面和入射面均镀紫外增透膜，不同衰减片的线性变化速度是不同的。
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