[实用新型]研磨头及化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201721380551.0 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN207326710U | 公开（公告）日： | 2018-05-08 |
| 发明（设计）人： | 岳志刚;林宗贤;吴龙江;辛君 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/00 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 化学 机械 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨头，包括用于限定晶圆位置的定位环，其特征在于，还包括嵌入所述研磨头内的传输管道；所述定位环上设置有至少一开口，所述开口与所述传输管道连通，研磨液经所述传输管道从所述开口流出至研磨垫表面。
2.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述至少一开口包括多个开口，且多个开口关于所述定位环的轴向对称分布。
3.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括与所述定位环连接的研磨头本体，所述传输管道集成于所述研磨头本体内。
4.根据权利要求3所述的研磨头，其特征在于，所述开口为贯穿所述定位环的通孔。
5.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述研磨头还包括与所述定位环连接的研磨头本体，所述传输管道集成于所述研磨头本体及所述定位环内。
6.根据权利要求5所述的研磨头，其特征在于，所述开口为设置于所述定位环上的圆孔或沟槽。
7.根据权利要求3或5所述的研磨头，其特征在于，所述定位环包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面与所述研磨头本体连接，所述开口设置于所述第二表面。
8.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述开口设置于所述定位环的内侧面。
9.根据权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述开口的内径小于所述传输管道的内径。
10.一种化学机械研磨装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的研磨头。
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