[实用新型]一种硅片烘干氧化装置有效
| 申请号： | 201721378276.9 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN207572340U | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 严健;杨健;晏文春;党继东 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷淋组件 烘干 硅片 臭氧 氧化装置 罩体 槽体 喷淋 体内 本实用新型 传输组件 氧化效果 热风 底面 隔开 减小 抽样 移动 保证 | ||
1.一种硅片烘干氧化装置，其特征在于，包括：
槽体(1)，硅片(5)能够沿所述槽体(1)的底面移动；
臭氧喷淋组件(3)，设置于所述槽体(1)内，用于向所述硅片(5)喷淋臭氧，以氧化所述硅片(5)，所述臭氧喷淋组件(3)外设置有第一罩体(33)；及
烘干喷淋组件(2)，设置于所述槽体(1)内，用于向所述硅片(5)喷淋热风，所述烘干喷淋组件(2)外设置有第二罩体(22)。
2.如权利要求1所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述臭氧喷淋组件(3)包括多根沿所述硅片(5)的移动方向排列的喷淋管(31)，所述喷淋管(31)的底面开设有喷淋口，所述喷淋管(31)的长度与所述硅片(5)垂直于移动方向的边长相适配。
3.如权利要求2所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述喷淋口凸设有喷淋嘴(32)。
4.如权利要求3所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述喷淋嘴(32)的截面面积由上到下逐渐增大。
5.如权利要求1所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述臭氧喷淋组件(3)分别与臭氧发生装置和氧气发生装置连通。
6.如权利要求1-5中任一项所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述烘干喷淋组件(2)与所述臭氧喷淋组件(3)沿所述硅片(5)的移动方向依次排列。
7.如权利要求1-5中任一项所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述烘干喷淋组件(2)包括喷淋箱，所述喷淋箱的底面为喷淋板(21)，所述喷淋板(21)上设置有喷淋孔(211)。
8.如权利要求7所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述喷淋箱的底面上设置有呈矩阵排列的多个所述喷淋孔(211)。
9.如权利要求1-5中任一项所述的烘干氧化装置，其特征在于，还包括传输组件，设置于所述槽体(1)内，用于支撑硅片(5)并带动硅片(5)移动；所述烘干喷淋组件(2)和所述臭氧喷淋组件(3)均位于所述传输组件的上方。
10.如权利要求9所述的烘干氧化装置，其特征在于，所述传输组件包括滚轮传送带(41)。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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