[实用新型]沿深度方向多形式、变截面支护结构

说明书

本实用新型公开了沿深度方向多形式、变截面支护结构及其施工方法，包括从地面向下连续设置、且首尾相连的若干层支护结构；每两层相邻的支护结构中靠近坑底的支护结构设置于另一支护结构内，每两层支护结构之间相连接的首尾部之间存在间隙，并籍由间隙加固体进行加固。在施工过程中，自上向下依次设置支护、挖深基坑并设置支撑；根据每一层的深度选择相应形式和截面的支护结构，并在相邻两层之间的间隙内设置间隙加固体加固。本实用新型的应用在基坑建造时，能够是想沿深度方向多形式、变截面支护结构，能大幅减小支护结构工程量，有效拓展了地下工程的建设手段，推动了行业技术进步，具有良好经济、社会效益。

技术领域

本实用新型涉及基坑建造技术领域，特别涉及沿深度方向多形式、变截面支护结构。

背景技术

随着城市化进程的快速推进，层出不穷的超大超深地下室、超高层建筑的基础刚度要求使基坑开挖深度越来越深。

在现有技术中，基坑沿其深度方向一般均采用统一形式、统一截面的支护结构，即基坑挖深决定了支护结构的形式与截面，而此截面对同一基坑浅层区域而言显然是过大了，由此出现了支护结构的大量浪费。

因此，需要对现有的基坑建造方式进行改进，以适应越来越多超大超深地下室、超高层建筑的基础刚度要求和建造速度要求。

实用新型内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本实用新型提供沿深度方向多形式、变截面支护结构及其施工方法，实现的目的之一是在基坑不同深度范围采用不同支护形式、不同截面的支护结构，以实现支护结构的最优化。

为实现上述目的，本实用新型公开了沿深度方向多形式、变截面支护结构，包括从地面向下连续设置、且首尾相连的若干层支护结构。每两层相邻的所述支护结构中靠近所述坑底的所述支护结构设置于另一所述支护结构内部，每两层所述支护结构之间相连接的首尾部之间存在间隙，并籍由间隙加固体进行加固。每一所述支护结构内部均最少设有一个横向设置的支撑。

优选的，所述支护结构包括靠近地面部分的浅层支护结构，以及靠近坑底的深层支护结构；所述浅层支护结构可采用SMW工法桩或小型钻孔灌注桩；所述深层支护结构可采用地下连续墙大直径钻孔灌注桩。

优选的，所述间隙加固体是采用高压旋喷工艺进行加固。

本实用新型的有益效果：

本实用新型应用在基坑建造时，能够提供沿深度方向多形式、变截面支护结构，能大幅减小支护结构工程量，有效拓展了地下工程的建设手段，推动了行业技术进步，具有良好经济、社会效益。

以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。

附图说明

图1示出本实用新型一实施例中设置最上层支护结构时的状态示意图。

图2示出本实用新型一实施例中设置第二层支护结构时的状态示意图。

图3示出本实用新型一实施例中开挖至基坑最上层的结构示意图。

图4示出本实用新型一实施例的结构示意图。

具体实施方式

实施例

如图4所示，沿深度方向多形式、变截面支护结构，包括从地面9向下连续设置、且首尾相连的若干层支护结构。

每两层相邻的支护结构中靠近坑底29的支护结构设置于另一支护结构内部，每两层支护结构之间相连接的首尾部之间存在间隙，并籍由间隙加固体3进行加固。

每一支护结构内部均最少设有一个横向设置的支撑11、12、13、21。