[实用新型]一种SiC沉积固定装置有效
申请号: | 201721351323.0 | 申请日: | 2017-10-19 |
公开(公告)号: | CN207418860U | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 白秋云 | 申请(专利权)人: | 成都超纯应用材料有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C14/50 |
代理公司: | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人: | 薛波 |
地址: | 610200 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 圆形托盘 通道部 通孔部 锥齿轮 固定装置 转盘轴承 锁定杆 沉积 本实用新型 从动轮 外圆周 啮合 传动结构 径向布置 螺母螺杆 驱动齿轮 同轴固定 中间设置 外齿部 对心 轴向 锁定 驱动 伸出 移动 | ||
本实用新型公开了一种SiC沉积固定装置,包括圆形托盘,圆形托盘中间设置通孔部,圆形托盘的一侧端面上设置有内径大于所述通孔部的转盘轴承,转盘轴承的外圆周上设置有外齿部,转盘轴承的外圆周设置有一驱动齿轮、一锁定机构以及至少三个从动轮,所述从动轮与设置在圆形托盘中的第一锥齿轮同轴固定,圆形托盘中还设置有与第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮,所述的圆形托盘中设置有沿通孔部径向布置的通道部,所述通道部中设置有用于沿通孔部轴向径向伸出的锁定杆,所述的第二锥齿轮设置在所述的通道部中且与锁定杆采用螺母螺杆传动结构驱动所述的锁定杆沿通道部移动。本实用新型的SiC沉积固定装置可实现对心以及固定,操作简单且方便。
技术领域
本实用新型属于气相沉积装置技术领域,具体涉及一种SiC沉积固定装置。
背景技术
现有的SiC沉积固定装置如图1所示,为圆盘结构1',中间设计有台阶孔,将待沉积产品置于台阶上,并保证需要沉积的表面朝下,然后吊装在沉积炉内,以实现产品表面SiC的沉积。但该工装采用台阶孔的方式来托举需要沉积的产品5',其沉积表面仅限于下表面的裸露部分,另外与台阶结构相接触的部分由于被台阶遮挡,导致该部分无法实现沉积。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:针对现有的产品无法实现全口径端面沉积的问题,提供一种SiC沉积固定装置,对产品进行侧面装夹,保证需要沉积的端面能够全部裸露在外,沉积效果更佳。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种SiC沉积固定装置,包括圆形托盘,圆形托盘中间设置有沿圆形托盘轴向的用于放置产品的通孔部,圆形托盘的一侧端面上设置有内径大于所述通孔部的转盘轴承,转盘轴承的外圆周上设置有外齿部,转盘轴承的外圆周设置有一与外齿部啮合的驱动齿轮、一锁定所述外齿部的锁定机构以及至少三个与外齿部啮合的从动轮,所述从动轮与设置在圆形托盘中的第一锥齿轮同轴固定,圆形托盘中还设置有与第一锥齿轮啮合的第二锥齿轮,所述的圆形托盘中设置有沿通孔部径向布置的通道部,所述通道部中设置有用于沿通孔部轴向径向伸出的锁定杆,所述的第二锥齿轮设置在所述的通道部中且与锁定杆采用螺母螺杆传动结构驱动所述的锁定杆沿通道部移动。
优选地,所述的锁定杆端部设置有胶垫部件。
优选地,所述的驱动齿轮上设置有用于手动旋转的旋钮结构。
优选地,所述的驱动齿轮采用电动驱动。
优选地,所述的锁定机构包括固定安装在圆形托盘上的套管,套管中设置有用于插入齿间的锁定销轴,套管内设置有保持锁定销轴伸出的弹簧。
由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:
本实用新型的SiC沉积固定装置,通过在圆形托盘内设置有若干个可以从径向固定产品的固定机构,保证装夹的产品的下端面能够全部裸露,沉积能够顺利进行;而圆形托盘的端面设置有转盘轴承,通过转盘轴承同时驱动多个固定机构同时动作,可实现对产品的对心以及固定,操作简单且方便。
附图说明
图1是现有技术的沉积固定装置的结构示意图。
图2是本实用新型的沉积固定装置的俯视图。
图3是图2的A-A剖视图。
附图标记:1-圆形托盘,2-转盘轴承,3-从动轮,4-驱动齿轮,5-产品,6-锁定机构,7-橡胶垫片,8-第二锥齿轮,9-锁定杆,10-通道部,11-第一锥齿轮。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都超纯应用材料有限责任公司,未经成都超纯应用材料有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721351323.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的