[实用新型]可改善处理均度的膜组件清洗装置

权利要求书

1.一种可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述可改善处理均度的膜组件清洗装置包括有清洗药槽，其内部填充有清洗药液，清洗药槽的内壁之上设置有采用环形结构的支撑端架，清洗药槽的内壁之上设置有多个在竖直方向上进行延伸的导向槽体，支撑端架之上设置有延伸至导向槽体内部的导向端体，导向槽体与导向端体均采用“T”形结构；所述支撑端架之上连接有升降丝杆。

2.按照权利要求1所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述升降丝杆与支撑端架的连接端部设置有振动电机。

3.按照权利要求1所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有一个扰流装置，扰流装置包括有扰流轴，其通过设置在清洗药槽外部的扰流电机进行驱动，扰流轴之上设置有多个扰流叶片，扰流叶片相对于竖直平面呈倾斜延伸。

4.按照权利要求3所述的可改善处理均度的膜组件清洗装置，其特征在于，所述清洗药槽之中，支撑端架的上端与下端分别设置有多个过滤管道，过滤管道包括有溢流端部与回流端部，过滤管道的溢流端部与支撑端板之间的距离小于回流端部与支撑端板之间的距离，过滤管道的溢流端部与回流端部之间设置有采用“U”形结构的过滤腔，过滤腔内部设置有滤网；所述过滤管道的溢流端部位于支撑端架以及扰流装置之间。