[实用新型]双磨盘胶体磨有效
申请号: | 201721316301.0 | 申请日: | 2017-10-13 |
公开(公告)号: | CN207507612U | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 朱应雄;朱芷汐;孙纲;溥传利;阚婷 | 申请(专利权)人: | 云南鑫海汇花业有限公司 |
主分类号: | B02C21/00 | 分类号: | B02C21/00;B02C19/00;B02C7/08;B02C7/12 |
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地址: | 652700*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 下磨盘 磨体 上磨盘 磨盘 转轴 二次研磨 中心设计 研磨 胶体磨 螺旋磨 瓦片 上腔 下腔 转盘 快速流动 速度影响 位移丝杆 中心安装 外圆周 下流道 上端 侧边 出料 磨块 平磨 竖齿 细度 体内 加工 出口 | ||
双磨盘胶体磨,其机架的上方安装磨体,磨体的上腔中心安装有转轴,转轴上端安装有转盘,转盘上固定安装有两片进料磨块,在磨体内分别安装有两块磨瓦片,每片磨瓦片外圆周上安装有位移丝杆,在磨体的下腔中心设计有平面上磨盘,在转轴上安装有平面下磨盘,平面上磨盘和平面下磨盘上加工有螺旋磨槽,平面下磨盘的上方是物料的下流道,侧边是物料的出口。由于在磨体的下腔中心设计平面上磨盘和下磨盘,经过上腔的竖齿研磨过一次的胶体,流入平面磨盘中,受到二次研磨,胶体的细度更好;再次研磨的平磨上采用螺旋磨槽有利于胶体快速流动,因此增加二次研磨对出料的速度影响较小。
技术领域
本实用新型属于机械磨技术领域,涉及一种双磨盘胶体磨。
背景技术
现有技术中,胶体磨的结构是在其机架的上方安装磨体,磨体的上腔中心安装有转轴,转轴下端通过皮带轮与机架下端的电机连接,转轴上端安装有转盘,转盘上固定安装有两片进料磨块,进料磨块外圆周上加工内竖磨砂齿,在磨体内分别安装有两块磨瓦片,磨瓦片内圆周上加工有外竖磨砂齿,每片磨瓦片外圆周上安装有位移丝杆,位移丝杆的手柄位于磨体外,在磨体内设计有加热水腔。这种胶体磨为单层竖向磨齿结构,其工作效率高,但研磨的细度不高。
发明内容
本实用新型针对现有技术中单层的竖向磨齿胶体磨存在研磨的细度不高的问题,提供一种双磨盘胶体磨。
本实用新型的技术方案是:双磨盘胶体磨,其机架的上方安装磨体,磨体的上腔中心安装有转轴,转轴下端通过皮带轮与机架下端的电机连接,转轴上端安装有转盘,转盘上固定安装有两片进料磨块,进料磨块外圆周上加工内竖磨砂齿,在磨体内分别安装有两块磨瓦片,磨瓦片内圆周上加工有外竖磨砂齿,每片磨瓦片外圆周上安装有位移丝杆,位移丝杆的手柄位于磨体外,在磨体内设计有加热水腔,在磨体的下腔中心设计有平面上磨盘,在转轴上安装有平面下磨盘,平面上磨盘和平面下磨盘上加工有螺旋磨槽,平面下磨盘的上方是物料的下流道,侧边是物料的出口。
由于在磨体的下腔中心设计平面上磨盘和下磨盘,经过上腔的竖齿研磨过一次的胶体,流入平面磨盘中,受到二次研磨,胶体的细度更好;经过一次研磨的胶体温度升高、细度增大,其流动性增加,再次进入平磨后,平磨上采用螺旋磨槽有利于胶体快速流动,因此增加二次研磨对出料的速度影响较小。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为磨体上腔内进料磨块与磨瓦片的结构示意图。
具体实施方式
实施例:如图1和图2所示:一种双磨盘胶体磨,其机架1的上方安装磨体17,磨体17的上腔16中心安装有转轴19,转轴19下端通过皮带轮20与机架1下端的电机18连接,转轴19上端安装有转盘8,转盘8上固定安装有两片进料磨块11,进料磨块11外圆周上加工内竖磨砂齿9,在磨体17内分别安装有两块磨瓦片12,磨瓦片12内圆周上加工有外竖磨砂齿13,每片磨瓦片12外圆周上安装有位移丝杆14,位移丝杆14的手柄15位于磨体17外,在磨体17内设计有加热水腔10,在磨体17的下腔2中心设计有平面上磨盘6,在转轴19上安装有平面下磨盘4,平面上磨盘6和平面下磨盘4上加工有螺旋磨槽5,平面下磨盘4的上方是物料的下流道7,侧边是物料的出口3。
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