[实用新型]脉冲激光沉积系统

权利要求书

1.一种脉冲激光沉积系统，其特征在于，包括真空室、衬底承载架、非平衡磁极辅助靶、激光器和光路系统，其中所述衬底承载架和所述非平衡磁极辅助靶相对设置在所述真空室内，所述非平衡磁极辅助靶面向所述真空室内侧的一面上设置有至少一对磁极且在该对磁极之间形成有非平衡磁场，在该对磁极之间设置有靶材，所述激光器产生的激光通过所述光路系统聚焦至所述靶材表面，以在所述靶材上产生烧蚀等离子体，所述烧蚀等离子体在所述非平衡磁场的作用下做进一步电离并均匀分布至所述靶材表面。

2.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述系统还包括等离子体发生器，所述等离子体发生器与所述真空室连通，用于对注入其内的气体进行等离子体化，并将所述气体的等离子体输送至所述真空室内。

3.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述衬底承载架为偏置电极，所述偏置电极用于承载衬底，并与偏置电源连接，以在所述偏置电极上形成电场，以吸引等离子体轰击到衬底上。

4.根据权利要求3所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述衬底承载架还通过旋转轴与旋转装置连接，以使所述旋转装置带动所述偏置电极转动。

5.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述系统还包括温控系统，用于对所述真空室内的温度进行控制。

6.根据权利要求1所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述非平衡磁极辅助靶包括靶座和磁轭，在所述靶座面向所述真空室内的一侧上设置有所述靶材，在所述靶座内埋设有相对于所述靶材对称设置的至少一对磁极，该对磁极的极性相反且磁场强度不同。

7.根据权利要求6所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述非平衡磁极辅助靶还包括导磁板，该导磁板分设于至少一对磁极的两侧，且相对于所述靶材对称设置。

8.根据权利要求6所述的脉冲激光沉积系统，其特征在于，所述靶座内设置有位于所述靶材下方的冷却水池。