[实用新型]一种底部出料式冷坩埚有效
申请号: | 201721273435.9 | 申请日: | 2017-09-29 |
公开(公告)号: | CN207262942U | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 张清勇;唐皇哉;胡树金 | 申请(专利权)人: | 睿为电子材料(天津)有限公司 |
主分类号: | F27B14/06 | 分类号: | F27B14/06;F27B14/14;F27B14/10;F27B14/08;F27D9/00 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司12101 | 代理人: | 谢宇强 |
地址: | 300382 天津市西青区学*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 底部 出料式冷 坩埚 | ||
技术领域
本实用新型属于加热设备技术领域,特别是涉及一种底部出料式冷坩埚。
背景技术
冷坩埚能够在无坩埚材料污染的环境下对材料进行熔炼和处理,被广泛用于熔炼活泼金属、难熔金属、难熔合金或者特种材料。利用冷坩埚不污染原料的特点,制备高纯高密度氧化铝多晶体是一种行之有效的方法。冷坩埚是由内部通有循环冷却水的几十根铜管组成,坩埚中的原料被电磁感应加热到2000度以上,由于铜管中循环冷却水的作用与铜管接触的氧化铝粉末不会熔融,加热过程中晶体与铜管处于软接触状态,防止了高纯氧化铝原料被坩埚材料污染。
目前,传统冷坩埚在进行卸料时需将冷坩埚旋转180度才能将晶柱倒出,操作十分不便。
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种底部出料式冷坩埚,该冷坩埚底部水盒采用双水盒及活塞方式设计,实现底部出料,方便快捷,节省时间,并避免危险。
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:
一种底部出料式冷坩埚,包括水冷坩埚壁、电磁感应线圈和坩埚盖,所述电磁感应线圈设置在水冷坩埚壁外侧,所述坩埚盖设置在冷坩埚顶部,在水冷坩埚壁底部设有内部水盒和为水冷坩埚壁通入循环冷却水的外部水盒,所述外部水盒与水冷坩埚壁底部固定连接,所述外部水盒中央中空,所述内部水盒的上端从外部水盒的底部中央穿过并伸入至冷坩埚内,所述内部水盒与外部水盒、水冷坩埚壁的内侧壁间隙配合。
本实用新型还可以采用如下技术措施:
所述外部水盒包括上进水盒和下出水盒,上进水盒和下出水盒连通。
所述外部水盒为中央中空的圆柱体。
所述内部水盒的纵截面为凸字型。
所述内部水盒的上端伸入冷坩埚内部的高度为3cm。
所述内部水盒上设有冷却水进出水口。
本实用新型具有的优点和积极效果是:
本实用新型在冷坩埚底部水盒采用双水盒及活塞方式设计,实现底部出料,避免了传统冷坩埚在进行卸料时需将冷坩埚旋转180度才能将晶柱倒出的情况,方便快捷,节省时间,并避免危险。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的卸料状态结构示意图。
图中:1-电磁感应线圈;2-水冷坩埚壁;3-坩埚盖;4-内部水盒;51-上进水盒;52-下出水盒;6-氧化铝粉;7-晶柱。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下:
请参阅图1和2,一种底部出料式冷坩埚,包括水冷坩埚壁2、电磁感应线圈1和坩埚盖3,电磁感应线圈1设置在水冷坩埚壁2外侧,坩埚盖3设置在冷坩埚顶部,在水冷坩埚壁2底部设有内部水盒4和为水冷坩埚壁通入循环冷却水的外部水盒,内部水盒上设有冷却水进出水口,内部水盒内部的冷却水单独形成一回路,外部水盒与水冷坩埚壁底部固定连接,外部水盒中央中空,外部水盒包括上进水盒51和下出水盒52,上进水盒51和下出水盒52连通,上进水盒上设有进水口,下出水盒上设有出水口,内部水盒4的上端从外部水盒的底部中央穿过并伸入至冷坩埚内,内部水盒4与外部水盒、水冷坩埚壁2的内侧壁间隙配合。
作为进一步优选的实施例,内部水盒4的截面为凸字型,防止内部水盒全部穿入外部水盒内,内部水盒4的最大外径与外部水盒的最大外径相同,外部水盒为半径比水冷坩埚壁外径大的中央中空的圆柱体,增加坩埚放置时的稳定性。
作为进一步优选的实施例,内部水盒4的上端伸入冷坩埚内部的高度为3cm。
生产开始时内部水盒4处于上位,与外部水盒配合,向冷坩埚内添加氧化铝粉6,此时线圈处于下部,启动加热后,线圈沿Z向逐渐向上移动,直至生产完毕。生产完毕后内部水盒沿Z向向下移动,直至晶柱7脱离外部水盒,将晶柱从底部拉出。该设计采用双水盒结构,内部水盒和56根铜管围成的水冷坩埚壁的内侧壁及外部水盒间隙配合,方便内部水盒和晶柱从底部拉出。此过程避免传统冷坩埚需将冷坩埚旋转180度才能将晶柱倒出的情况,方便快捷,节省时间并避免危险。
以上所述仅是对本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改,等同变化与修饰,均属于本实用新型技术方案的范围内。
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