[实用新型]一种全景镜头的棱镜结构有效
申请号: | 201721272758.6 | 申请日: | 2017-09-30 |
公开(公告)号: | CN207264003U | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 阳洪伟;周三甫 | 申请(专利权)人: | 中山市弗图艾力克光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B7/18 | 分类号: | G02B7/18;G02B13/06 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 | 代理人: | 邹常友 |
地址: | 528437 广东省中山市火*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 全景 镜头 棱镜 结构 | ||
【技术领域】
本实用新型主要涉及一种全景镜头的棱镜结构。
【技术背景】
现有的全景镜头中棱镜定位主要缺点:1. 如果棱镜是一体的,那棱镜的加工要求很高(棱镜的进光面、出光面、反射面之间的位置关系)并且镜筒中对棱镜的定位要求也高导致镜筒加工精度高,加工困难;2.如果棱镜是分体式的,那棱镜的在镜筒中的定位比一体式的更困难,增加了棱镜之间的位置关系要求。为了解决这些问题,我们提出一种新的技术方案。
【实用新型内容】
为解决上述问题,本实用新型提出了一种全景镜头的棱镜结构。
本全景镜头的棱镜结构采用以下的技术方案:
一种全景镜头的棱镜结构,它包括镜筒、安装于镜筒内的棱镜和定位镜片;
所述镜筒设有凹位,凹位的尺寸与定位镜片相对应,以使定位镜片紧凑安置于所述凹位中;
定位镜片设有贴合面,棱镜利用粘合剂直接粘贴在定位镜片的贴合面,以实现定位镜片与棱镜组合构成整体;通过将粘贴成整体的定位镜片与棱镜放入镜筒内,且定位镜片配对放置于所述凹位,降低了镜筒加工的工艺复杂性。
优选地,所述棱镜为分体式结构,它包括第一棱镜和第二棱镜,定位镜片的数量与分体的棱镜数量相对应。
优选地,第一棱镜具有两个45度的内角,第一棱镜的45度角的加工误差在正负30秒范围内。
优选地,第一棱镜利用粘合剂直接贴合在定位镜片上;第二棱镜贴合在另一个定位镜片,将分别贴合有第一棱镜、第二棱镜的定位镜片放置于镜筒内,使第一棱镜与第二棱镜在镜筒内组合成广角镜头。
优选地,广角镜头的视场角大于180度。
优选地,定位镜片配备有图像传感器,图像传感器的数量与定位镜片相对应,图像传感器用于摄取定位镜片形成的图像。
本实用新型同背景技术相比所产生的有益效果:
本实用新型具有以下优点:一、采用了两个结构相同的成像系统,组合成一个整体,方便加工,减低工艺的复杂程度;二、通过将棱镜胶合在镜片上,到达简化镜筒结构,降低加工难度;三、通过将棱镜胶合在镜片上,降低棱镜的加工。
【附图说明】
图1为本实用新型提供的较佳实施例中第一棱镜结构示意图;
图2为现有的全景镜头剖面结构示意图;
图3为本实用新型提供的较佳实施例中全景镜头示意图;
图4为本实用新型提供的较佳实施例中全景镜头的局部结构示意图;
图5为本实用新型提供的较佳实施例中全景镜头剖面结构示意图。
【具体实施方式】
下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向” 、 “纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“至少”的含义是一个或一个以上,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。
在实用新型中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征 “之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。
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