[实用新型]新型涂胶显影设备涂敷单元

说明书

本实用新型公开了一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖(1)和内盖(2)，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘(3)，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔；所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁；所述内盖的开口处设置有调节机构(R)。本实用新型的有益效果是：内盖所设背清喷头配合的开口可以根据需要进行尺寸调节，及时在内盖开口加工尺寸有误差的情况下，可以通过调整调节结构也能够较好的实现背清喷头与开口的对位。

技术领域

本实用新型涉及半导体集成电路制造领域，尤其是涉及一种新型涂胶显影设备涂敷单元。

背景技术

公开号为CN206292524U的实用新型专利公开了一种涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖和内盖，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔。本实用新型提出的涂胶显影设备涂敷单元，适用于多种尺寸基片的处理，节约购机成本，从而降低了生产成本。该涂胶显影设备涂敷单元在内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁，然而，两条开口是否能够与背清喷头对位至关重要，然而，内盖的开口加工位置如果存在偏差，则会给现场的安装带来不必要的麻烦。

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了解决上述问题，提供一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其内盖所设开口大小能够根据背清喷头位置进行调节。

为解决上述技术问题，本实用新型的实施方式提供了一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖(1)和内盖(2)，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘(3)，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔；所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁；所述内盖的开口处设置有调节机构(R)，所述调节结构包括：可调整开口尺寸的调节板(R1)，所述开口侧壁设置有可供调节板滑入或者滑出的滑动通道(R2)，所述内盖的上表面设置有沿着滑动通道布置的滑杆滑动槽(R3)，所述调节板安装有位于滑杆滑动槽的滑杆(R4)。

进一步，所述调节结构对称安装于所述开口处。

本实用新型具有如下有益效果：内盖所设背清喷头配合的开口可以根据需要进行尺寸调节，及时在内盖开口加工尺寸有误差的情况下，可以通过调整调节结构也能够较好的实现背清喷头与开口的对位。

附图说明

图1为新型涂胶显影设备涂敷单元示意图；

图2为图1中I处放大图；

图3为调节板局部示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。

如图1-3所示，一种新型涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖1和内盖2，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘3，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔；所述内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁。前述结构可以参考公开号为CN206292524U的实用新型专利。

参见图1，而所述内盖的开口处设置有调节机构R，且在开口处对称布置该调节结构，以便于从两个方向均能调整开口的尺寸。