[实用新型]流体控制装置

说明书

本实用新型公开流体控制装置，包括块体和第一芯体部，块体包括第一安装腔，第一芯体部至少部分位于第一安装腔；块体包括进口、第一出口，进口与第一安装腔连通，块体包括第一安装腔底壁，第一安装腔底壁包括第一环形底壁和第二环形底壁，第一环形底壁包括起始位置和末端位置，第一环形底壁的起始位置相对靠近进口，以第一安装腔的轴向方向为高度方向，第一环形底壁自第其起始位置以高度递增的形式朝着其末端位置延伸；第二环形底壁包括起始位置和末端位置，第二环形底壁的起始位置相对靠近进口，第二环形底壁自其起始位置以高度递增的形式朝着其末端位置延伸。通过第一环形底壁、第二环形底壁的结构设置，使得流体压降较低。

技术领域

本实用新型涉及流体控制领域。

背景技术

在流体领域中，一般需要使用流体控制装置来实现流路的连通或中断，在流动过程中容易会遇到流阻大、压降较大的情况。因此，在流体控制装置的结构设计上，压降是个重要的考虑因素。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种流体控制装置，其压降较小。

为实现上述目的，采用如下技术方案：一种流体控制装置，包括块体和第一芯体部，所述块体包括第一安装腔，所述第一芯体部至少部分位于所述第一安装腔；

所述块体包括进口、第一出口，所述进口与所述第一安装腔连通，所述块体包括第一安装腔底壁，所述第一安装腔底壁包括第一环形底壁和第二环形底壁，所述第一环形底壁包括起始位置和末端位置，所述第一环形底壁的起始位置相对靠近所述进口，以所述第一安装腔的轴向方向为高度方向，所述第一环形底壁自所述第一环形底壁的起始位置以高度递增的形式朝着所述第一环形底壁的末端位置延伸；所述第二环形底壁包括起始位置和末端位置，所述第二环形底壁的起始位置相对靠近所述进口，所述第二环形底壁自所述第二环形底壁的起始位置以高度递增的形式朝着所述第二环形底壁的末端位置延伸。

上述技术方案设置第一环形底壁和第二环形底壁，第一环形底壁自其起始位置以高度递增的形式朝着其末端位置延伸，第二环形底壁自其起始位置以高度递增的形式朝着其末端位置延伸，使得流体自进口进入第一安装腔后通过第一环形底壁、第二环形底壁的引导，运动轨迹清晰，压降较低。

附图说明

图1为本实用新型块体的一种实施方式的结构示意图；

图2为图1的俯视示意图；

图3为沿图2中的K-K线的剖面示意图；

图4为本实用新型的一种实施方式的结构示意图；

图5为图4的左侧示意图；

图6为沿图5中的D-D线的剖面示意图；

图7为图4的俯视示意图；

图8为沿图7中的B-B线的剖面示意图；

图9为沿图7中的S-S线的剖面示意图；

图10为本实用新型的流体控制装置的一种实施方式的剖面示意图；

图11为本实用新型的流体控制装置的又一种实施方式的结构示意图；

图12为本实用新型的流体控制装置的另一种实施方式的剖面示意图；

图13为图11的剖面示意图；

图14为本实用新型的流体控制装置的再一种实施方式的剖面示意图；

图15为沿图13中N-N线的剖面示意图。

具体实施方式

本实用新型所述的流体控制装置可用于实现流路的连通和截断。当然，截断包括5％的误差范围。