[实用新型]一种真空溅射镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201721255637.0 申请日: 2017-09-28
公开(公告)号: CN207483836U 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 王振东;何万能 申请(专利权)人: 苏州诺耀光电科技有限公司
主分类号: C23C14/20 分类号: C23C14/20;C23C14/56;C23C14/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 金属镀层 主辊 收卷辊 平面电磁 导向辊 放卷辊 真空溅射镀膜 本实用新型 高频交变磁场 非结晶状态 塑料薄膜 加热金属 溅射阴极 涡流发热 相对设置 真空腔体 板设置 真空腔 镀层 过热 发热 变形 体内
【说明书】:

实用新型揭示了一种真空溅射镀膜装置,包括外壳,所述外壳内形成有真空腔体,所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊,所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极;所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊,所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊;还包括平面电磁板,所述平面电磁板设置于所述主辊和所述收卷辊之间,以加热金属镀层。本实用新型通过平面电磁板产生的高频交变磁场使非结晶状态的金属镀层内部产生涡流发热,进而促使金属镀层结晶。由于是金属镀层自身发热且金属镀层厚度较薄,所带热量不多,可以避免塑料薄膜过热变形,同时也可以使金属镀层完全结晶。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种真空溅射镀膜装置。

背景技术

真空溅射镀膜是现有的镀膜工艺,采用真空溅射的方式使靶材上分离的原子或分子附着在基材上形成镀层。

当制备的镀膜产品以塑料薄膜为基材,金属为靶材时,通过真空溅射附着在塑料薄膜上的金属镀层为非结晶状态。为使金属镀层结晶,现有技术中采用红外加热器、电阻加热器等加热装置对镀膜产品进行加热。上述加热装置热转换效率低,且在加热金属镀层的同时也会加热塑料薄膜,容易导致塑料薄膜过热变形。为防止塑料薄膜过热变形就只能调低加热温度,但是这样又容易导致金属镀层结晶不完全。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空溅射镀膜装置。

为实现上述实用新型目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种真空溅射镀膜装置,包括外壳,所述外壳内形成有真空腔体,所述真空腔体内设有放卷辊和收卷辊,所述放卷辊和所述收卷辊之间设有主辊以及与所述主辊相对设置的溅射阴极;

所述放卷辊和所述主辊之间设有第一导向辊,所述主辊和所述收卷辊之间设有第二导向辊和第三导向辊;

还包括平面电磁板,所述平面电磁板设置于所述主辊和所述收卷辊之间,以加热金属镀层。

进一步的,所述平面电磁板和与其相对的镀膜产品相互平行设置。

更进一步的,所述第二导向辊和所述第三导向辊之间的镀膜产品水平设置,所述平面电磁板位于第二导向辊和所述第三导向辊之间且水平设置。

相对于现有技术,本实用新型的技术效果在于:

本实用新型通过平面电磁板产生的高频交变磁场使非结晶状态的的金属镀层内部产生涡流发热,进而促使金属镀层结晶。由于是金属镀层自身发热且金属镀层厚度较薄,所带热量不多,可以避免塑料薄膜过热变形,同时也可以使金属镀层完全结晶。

附图说明

图1是本实用新型实施方式中一种真空溅射镀膜装置的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

以下提供本实用新型的一种实施方式:

请参见图1,一种真空溅射镀膜装置,包括外壳1,所述外壳1内形成有真空腔体11,所述真空腔体11内设有放卷辊2和收卷辊3,所述放卷辊2和所述收卷辊3之间设有主辊4以及与所述主辊4相对设置的溅射阴极5;

所述放卷辊2和所述主辊4之间设有第一导向辊61,所述主辊4和所述收卷辊3之间设有第二导向辊62和第三导向辊63;

还包括平面电磁板7,所述平面电磁板7设置于所述主辊4和所述收卷辊3之间,以加热金属镀层。

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