[实用新型]餐具清洗装置

权利要求书

1.一种餐具清洗装置，其特征在于，包括：

壳体(10)，所述壳体(10)形成封闭的容纳空间，以用于盛放餐具；

负离子发生器(20)，所述负离子发生器(20)包括负离子发生器发射头，所述负离子发生器发射头用于向所述容纳空间内发射负离子。

2.根据权利要求1所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述餐具清洗装置还包括发射头保护壳(30)，所述负离子发生器发射头设置在所述壳体(10)上，所述发射头保护壳(30)罩设在所述负离子发生器发射头外。

3.根据权利要求2所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述壳体(10)上设置有安装孔，所述发射头保护壳(30)包括套管(31)和设置在所述套管(31)的端部的保护罩(32)，所述套管(31)穿设在所述安装孔内，所述负离子发生器发射头设置在所述套管(31)内，所述保护罩(32)位于所述容纳空间内。

4.根据权利要求3所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述保护罩(32)为外凸的圆弧面、内凹的圆弧面或者平面。

5.根据权利要求3所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述保护罩(32)上设置有过孔(40)，以使所述负离子发生器发射头发射的负离子通过所述过孔(40)进入至所述容纳空间内。

6.根据权利要求5所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述过孔(40)为圆环孔或者圆孔。

7.根据权利要求5所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述过孔(40)与所述套管(31)的中心轴线的角度为α，0°≤α＜90°。

8.根据权利要求5所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述餐具清洗装置还包括控制结构，所述保护罩(32)上设置有密封结构，所述密封结构与所述过孔(40)相配合，以使所述负离子发生器发射头处于工作状态时，所述密封结构位于避让位置，所述负离子发生器发射头处于非工作状态时，所述密封结构处于密封所述过孔(40)的位置，所述控制结构与所述密封结构电相连接，以控制所述密封结构在工作状态和非工作状态之间切换。

9.根据权利要求3所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述保护罩(32)上述设置有密封结构，所述密封结构包括滑片和驱动件，所述滑片可移动地设置在所述保护罩上，所述驱动件与所述滑片相连；或者

所述密封结构为防水膜，所述防水膜可防止水和清洗液飞溅至所述发射头保护壳(30)内，所述负离子可通过所述防水膜进入至所述容纳空间。

10.根据权利要求2所述的餐具清洗装置，其特征在于，所述发射头保护壳(30)为一个，所述负离子发生器发射头为多个，所述多个负离子发生器发射头设置在一个所述发射头保护壳(30)内；或者

所述发射头保护壳(30)为多个，所述负离子发生器发射头为多个，各所述发射头保护壳(30)内至少设置有一个负离子发生器发射头。