[实用新型]颅底缺损封堵修补装置有效

专利信息
申请号: 201721244601.2 申请日: 2017-09-18
公开(公告)号: CN208769848U 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 张湘民 申请(专利权)人: 广州派若弥医疗器械有限公司
主分类号: A61B17/00 分类号: A61B17/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 510627 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 封堵 颅底缺损 封堵构件 修补材料 哑铃状 自锁 修补装置 放送器 可变形 腰鼓状 漏口 膜性 柔顺 镍钛记忆合金 本实用新型 可降解材料 筋膜组织 脑脊液漏 人体组织 外层密封 医用缝线 异体组织 胶囊状 相容性 硬脑膜 抗原 变软 堵漏 内置 推送 遇水 自体 变形 坚韧 暴露 制作
【说明书】:

本实用新型之颅底缺损封堵修补装置,由与人体组织相容性好且坚韧柔顺的膜性材料制成盲管状或胶囊状外层密封套、内置可变形腰鼓状或哑铃状自锁封堵构件及放送器组成。所述膜性材料可选用人工硬脑膜、脱抗原异体组织或自体筋膜组织。所述可变形自锁封堵构件可采用镍钛记忆合金网、哑铃状可降解材料或医用缝线制作。使用时可在内镜下操作,先寻找暴露颅底缺损出现脑脊液漏的漏口,选择合适大小的颅底缺损封堵修补材料,由放送器放送到漏口处,缓慢推送封堵修补材料使其前端进入漏口内,后端位于漏口外。封堵修补材料遇水变软,其内的变形自锁封堵构件成腰鼓状或哑铃状,达到紧密封堵漏口的目的。

技术领域

本实用新型属一种用于颅底缺损修补重建的医疗用品。

背景技术

颅底缺损可出现脑脊液漏,极易导致颅内感染危及生命。颅底缺损可因先天性、外伤或外科手术导致。先天性颅底缺损常并发脑膜脑膨出和脑脊液鼻漏或脑脊液耳鼻漏。外伤多因撞击伤、刺伤或枪伤导致。而手术导致的颅底缺损常因切除颅底肿瘤或颅内病损后未能妥善修复而成。当出现颅底缺损并发脑脊液漏时,应尽快查明颅底缺损的部位和大小,选择合适的方法进行修补。常规的颅底缺损修补方法有:开颅探查手术修补方法,经鼻内镜探查手术修补方法和经耳显微镜或内镜手术探查修补等方法。修补材料多选用自体组织,如阔筋膜、颞筋膜、粘膜、脂肪或肌肉等。修补方法有内贴法、外贴法和转移贴膜瓣方法。内贴法多需要开颅探查修补,创伤较大。外贴法则需要加压填塞,不够牢靠,易复发。转移贴膜瓣法与外贴法类似,术后要求卧床、脱水、低盐饮食或行腰大池引流等,防止修补材料松脱复发。近年文献报导应用自体组织如肌筋膜或脂肪制成浴缸塞状进行颅底缺损修补,成功率较高。本发明人也进行过多例浴缸塞法及夹板法修补颅底缺损并发脊液鼻漏或耳漏的病例,获得较高成功率及良好效果。此外,行颅底肿瘤手术,特别是脑垂体瘤切除术,如不进行颅底缺损修复,则有并发脑脊液鼻漏的危险。修补方法多采用自体肌肉或脂肪加医用胶填塞。采用自体组织造成病人二次创伤,延长手术时间,有时修补不牢靠,易再次发生脑脊液漏。专用的颅底修补装置和人工硬脑膜已设计有多种,例如:中国专利申请“一种颅底修补装置及方法” (申请号:201510611374)公开了一种颅底修补装置,包括:支撑杆,第一修补材料和第二修补材料,所述支撑杆顶端设置第一固定盘,所述支撑杆下端设置可在支撑杆上移动的活动盘,所述第一固定盘与活动盘之间设置固定有第一修补材料的支撑架,所述活动盘下方设置推杆,所述支撑杆下端还设置固定第二修补材料的第二固定盘。该发明提供的修补装置,可以方便对手术切口进行封堵,效果好。但结构较为复杂,对于漏口过大或过小者不适合使用。实用新型专利“一种经鼻入路脑脊液鼻漏修补器”(申请号:201220112628)采用可收起和撑开的伞状体人工硬脑膜补片,补片收起后可置入外套管的一端内,外套管的另一端套有可活动的内导管,述导丝穿过外套管和内导管。可用于漏口暴露较好、硬脑膜破损较大、颅内压较高的患者。但该设计在鼻颅底难以操作,进入颅内易损伤重要神经血管,且固定不牢靠,易出现移位。另一项实用新型专利“颅底修补固定器”(申请号:201420152123)包括连接杆,连接杆顶端设固定盘,连接杆下端设活动盘,固定盘和活动盘在连接杆上同轴,以固定盘和活动盘相对的一面为内,所述固定盘外侧面上贴合有可修剪的生物硬膜,所述固定盘内侧面上贴合有与固定盘形状相匹配的第一硅胶膜,所述活动盘内侧面上贴合有与活动盘形状相匹配的第二硅胶膜。使人工脑膜与周围缺损硬膜可以相互融合,恢复正常的颅腔结构,硬膜和骨质缺损的同时修补。综合以上各种颅底修补方法的优缺点,为达到更加安全有效,特设计以下新型颅底缺损修补装置和方法。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于设计制作一种用于颅底缺损修补重建的装置。

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