[实用新型]打磨头及自清洁抛光系统有效
申请号: | 201721193610.3 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN207616417U | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 李洋;张维伦;徐佳驹;郭涛;王彬 | 申请(专利权)人: | 青岛海信模具有限公司 |
主分类号: | B24D7/00 | 分类号: | B24D7/00;B24B53/007;B24B57/02;B24B41/02;B24B41/06;B24B7/10 |
代理公司: | 青岛联智专利商标事务所有限公司 37101 | 代理人: | 侯艳艳 |
地址: | 266114 山东省青*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 打磨头 打磨 硬质颗粒 抛光 内部通道 抛光过程 本实用新型 工件抛光 抛光系统 抛光效率 自清洁 连通 外部空间 圆心 中断 夹持部 发散 积存 内端 甩出 外端 冲刷 保证 | ||
1.一种打磨头,包括固连为一体的夹持部和头部,所述头部包括圆柱侧面、与夹持部相连接的连接端面和与连接端面相对的打磨面;其特征在于:所述打磨头的内部具有沿其轴向方向贯穿所述打磨头的内部通道;所述头部的打磨面上设有以所述打磨面的圆心为中心向四周延伸的多个沟槽,所述沟槽的内端与所述内部通道连通,外端延伸至所述圆柱侧面。
2.根据权利要求1所述的打磨头,其特征在于:所述沟槽沿所述头部的径向方向的截面呈弧形。
3.根据权利要求1或2所述的打磨头,其特征在于:所述沟槽在所述打磨面上均布。
4.根据权利要求3所述的打磨头,其特征在于:所述沟槽的深度为所述头部的轴向高度的1/3-1/2。
5.根据权利要求2所述的打磨头,其特征在于:所述沟槽的弯曲方向与所述打磨头的实际旋转方向相反。
6.一种自清洁抛光系统,包括打磨机、打磨头、打磨液供给管路和工作台,其特征在于:所述打磨头为权利要求1至5中任一项所述的打磨头,所述打磨液供给管路的出液端伸入所述内部通道内。
7.根据权利要求6所述的自清洁抛光系统,其特征在于:所述打磨液供给管路的出液端位于所述沟槽的内端上方。
8.根据权利要求6所述的自清洁抛光系统,其特征在于:所述自清洁抛光系统还包括机械手和恒力控制装置,所述打磨头可旋转地安装在所述机械手的前端上,且所述打磨头与所述机械手之间设置有所述恒力控制装置。
9.根据权利要求6所述的自清洁抛光系统,其特征在于:所述工作台包括工作台主体、位于工作台主体上的工件夹板组件和底座;所述工作台主体的一端铰接于所述底座,相对的另一端铰接于一升降机构的升降部件,所述升降机构铰接于所述底座。
10.根据权利要求9所述的自清洁抛光系统,其特征在于:所述工件夹板组件包括支撑轴、套设在支撑轴上的夹板及夹板紧固件,所述支撑轴的底端固设有滑块;所述工作台主体上设有贯穿所述工作台主体长度或宽度方向的滑道,所述滑块嵌入所述滑道内使所述工件夹板组件沿所述滑道滑动。
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