[实用新型]基板以及显示器件有效
| 申请号： | 201721134892.X | 申请日： | 2017-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN207489918U | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 邹祥祥;秦纬;彭宽军;李小龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 黄亮 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 衬底 光散射层 显示器件 支撑 光散射结构 入射光 透光 散射 投影 配置 | ||
【权利要求书】：
1.一种基板，其特征在于，包括：
支撑衬底；以及
光散射层，所述光散射层在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区，且具有被配置为使得入射光发生散射的以下至少一种光散射结构：
位于所述光散射层远离所述支撑衬底的表面的漫反射面；以及
所述光散射层中掺杂的用于光散射的纳米颗粒。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述漫反射面包括凹凸结构。
3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述凹凸结构至少在局部是不规则的。
4.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述凹凸结构的峰-峰间距约为0.5微米，以及所述凹凸结构的峰-谷高度差约为100纳米。
5.根据权利要求1所述的基板，其中，所述基板是彩膜基板，所述支撑衬底为透明支撑衬底，以及所述光散射层包括彩膜层。
6.根据权利要求5所述的基板，其特征在于，所述彩膜层的光散射结构包括漫反射面，所述漫反射面位于所述彩膜层远离所述透明支撑衬底的表面。
7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述漫反射面包括凹凸结构。
8.根据权利要求1所述的基板，其中，所述基板为封装基板，所述支撑衬底的透光形成区对应于所述封装基板对盒的阵列基板表面的像素发光区域。
9.一种显示器件，包括根据权利要求1～8中任一项所述的基板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
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H01L51-54 .. 材料选择
