[实用新型]一种复合防辐射基片及防辐射手机外壳有效
| 申请号： | 201721114920.1 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN207354346U | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 李政;李志丽 | 申请（专利权）人： | 佛山市顺德区莱尔电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H04M1/02 | 分类号： | H04M1/02;H04M1/18;H05K9/00 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 唐超文;贺红星 |
| 地址： | 528325 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 复合 防辐射 手机外壳 | ||
【权利要求书】：
1.一种复合防辐射基片，其特征在于，包括至上而下依次叠合的防辐射膜、连接层、缓冲层和底膜；所述防辐射膜包括自上而下依次叠合的氮化硅层、氧化铟锡层和ITO层；所述防辐射膜的厚度为10-75um；所述连接层上设有互相平行的两条凸沿，两条凸沿之间形成无限延伸的嵌合部；所述防辐射膜嵌合在嵌合部中。
2.如权利要求1所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述氮化硅层的厚度为7-60um；所述氧化铟锡层的厚度为2-13um；所述ITO层的厚度为1-2um。
3.如权利要求1所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述连接层为改性聚酯连接层。
4.如权利要求3所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述连接层的厚度为11-85um。
5.如权利要求1所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述缓冲层为聚氨酯缓冲层。
6.如权利要求5所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述缓冲层的厚度为5-20um。
7.如权利要求1所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述底膜为聚酯底膜。
8.如权利要求7所述的复合防辐射基片，其特征在于，所述底膜的厚度为60-150um。
9.一种防辐射手机外壳，其特征在于，包括如权利要求1-8任一所述的复合防辐射基片和外壳体；所述复合防辐射基片嵌设在外壳体中。
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