[实用新型]一种模具水路清洗装置有效

专利信息
申请号: 201721108692.7 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN207120399U 公开(公告)日: 2018-03-20
发明(设计)人: 宋刚;于学信 申请(专利权)人: 公主岭市德立智能科技有限公司
主分类号: B29C33/72 分类号: B29C33/72
代理公司: 北京市跃扬知识产权代理事务所(普通合伙)11559 代理人: 谷岳
地址: 136100 吉林省四平*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 模具 水路 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及模具清洗装置,具体涉及模具的水路清洗的装置。

背景技术

随着模具水路的长期使用,由于水中杂质以及长时间使用沉积的水垢及水锈,会导致水路的不畅,甚至是堵塞,从而造成了水路不通,继而影响到模具的使用效果,现有的方法为定期清洗模具水路,然而,目前常用的清洗模具水路的设备价格较高,并且不方便移动,不利用灵活清洗模具水路,增加清洗的工时,效率不高。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是针对上述模具水路清洗设备的不方便且成本高的问题,本实用新型提出一种模具水路清洗装置,所述清洗装置包括箱体、出水口、回水口,所述清洗装置包括多个出水口与多个回水口,所述出水口个数与所述回水口个数相等,并且所述出水口处设置流量阀,用以控制所述出水口的溶液压力,所述流量阀的个数与所述出水口个数对应,分别控制各出水口的压力,该清洗装置结构简单,易于移动,并且清洗效果好、效率高。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供的技术方案为:

一种模具水路清洗装置,所述清洗装置包括箱体、出水口、回水口,所述出水口、回水口与所述箱体连接,所述清洗装置包括多个出水口与多个回水口,所述出水口个数与所述回水口个数相等,并且所述出水口处设置流量阀,用以控制所述出水口的溶液压力,所述流量阀的个数与所述出水口个数对应,分别控制各出水口的压力。

所述箱体内包括酸溶液箱与清水箱,分别用以存放酸溶液与清水,所述出水口与所述酸溶液箱、清水箱之间设置导流管,所述导流管一端连接所述出水口,另一端切换连接所述酸溶液箱与清水箱,所述回水口连接所述酸溶液箱,将清洗完模具水路的溶液回收至所述酸溶液箱。

所述模具水路清洗装置还包括动力源,所述动力源设置于所述箱体上方,所述动力源用以提供所述清洗装置中溶液输出的动力,优选地,所述动力源为高压泵。

所述模具水路清洗装置还设置车轮,所述车轮设置于所述箱体下方,用以实现所述清洗装置的移动。

本实用新型的有益效果为:

1.使用本实用新型的模具水路清洗装置,设置多组清洗回路,提供清洗效率。

2.使用本实用新型的模具水路清洗装置,通过设置车轮,使得清洗装置移动方便,提高了清洗的灵活性。

附图说明

图1为本实用新型模具水路清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

本实用新型公开了一种模具水路清洗装置,本领域技术人员可以借鉴本文内容,适当改进工艺参数实现。需要特别指出的是,所有类似的替换和改动对本领域技术人员来说是显而易见的,它们都被视为包括在本实用新型,并且相关人员明显能在不脱离本实用新型内容、精神和范围的基础上对本文所述内容进行改动或适当变更与组合,来实现和应用本实用新型技术。

在本实用新型中,除非另有说明,否则本文中使用的科学和技术名词具有本领域技术人员所通常理解的含义。

为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

图1为本实用新型模具水路清洗装置的结构示意图,所述清洗装置包括箱体1、出水口2、回水口3,所述出水口2、回水口3与所述箱体1连接,所述清洗装置包括多个出水口2与多个回水口3,可以同时对多个模具水路进行清洗,所述出水口2个数与所述回水口3个数相等,并且所述出水口2处设置流量阀,用以控制所述出水口2的溶液压力,所述流量阀的个数与所述出水口2个数对应,分别控制各出水口2的压力。

所述箱体1内包括酸溶液箱4与清水箱5,分别用以存放酸溶液与清水,所述出水口2与所述酸溶液箱4、清水箱5之间设置导流管6,所述导流管6一端连接所述出水口2,另一端切换连接所述酸溶液箱4与清水箱5,所述回水口2连接所述酸溶液箱4,将清洗完模具水路的溶液回收至所述酸溶液箱4,在对模具水路清洗的过程中,首先由所述酸溶液箱内的酸溶液对所述模具水路冲洗,然后由所述清水箱内清水对所述模具水路冲洗,即完成所述模具水路的清洗。

所述模具水路清洗装置还包括动力源7,所述动力源7设置于所述箱体1上方,所述动力源7用以提供所述清洗装置中溶液输出的动力,优选地,所述动力源7为高压泵。

所述模具水路清洗装置还设置车轮8,所述车轮8设置于所述箱体1下方,用以实现所述清洗装置的移动。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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