[实用新型]新型高密度沉淀池

说明书

技术领域

本实用新型涉及污水处理设备技术领域，尤其涉及一种新型高密度沉淀池。

背景技术

现有技术中使用的高密度沉淀池技术多是舶来品，引入中国污水处理领域使用多年，一般会将其工艺、结构全部照搬，以方便建造使用。如图3和图4所示，集水渠2和溢水槽3均设于沉淀池体1的内部，且集水渠2设于沉淀池体1的中间，溢水槽3均布于集水渠2的两侧，图中箭头方向表示集水渠2内以及溢水槽3内的水流动方向。由此可见，当集水渠2布置在沉淀池体1的表面中间位置时，对整个沉淀池体1表面负荷影响太大，而溢水槽3的横向设置，对沉淀池体1内水体流动也会产生阻力。另外在沉淀池体内还安装有斜板，用于沉淀污泥，沉淀池体工作一段时间后，根据使用情况，需要对斜板进行冲洗，如果集水渠和溢水槽均分布于沉淀池体内，在对斜板冲洗操作时很不方便，容易产生冲洗死角，因此维护不方便。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够对斜板冲洗无死角、方便安装维护的新型高密度沉淀池。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：新型高密度沉淀池，包括沉淀池体，位于所述沉淀池体一端的外侧设有集水渠，所述沉淀池体内布置有若干溢水槽，所述溢水槽的出水端连通至所述集水渠。

作为优选的技术方案，所述集水渠两侧及顶端分别与所述沉淀池体齐平设置。

作为优选的技术方案，所述溢水槽与所述集水渠垂直布置。

作为优选的技术方案，所述溢水槽在所述沉淀池体内沿水流方向顺行设置。

由于采用了上述技术方案，新型高密度沉淀池，包括沉淀池体，位于所述沉淀池体一端的外侧设有集水渠，所述沉淀池体内布置有若干溢水槽，所述溢水槽的出水端连通至所述集水渠；本实用新型的有益效果是：将集水渠外移设置在沉淀池体的外侧，使斜板的有效使用面积增加15％以上，且在对斜板进行冲洗维护时，不会再产生冲洗死角，便于维护，集水渠外设更有助于集水渠的安装与维护，沉淀池体上层清液溢流效率高，溢水槽和集水渠的上述布置，不会阻碍沉淀池体内水体流动，因此最大程度地降低了对沉淀池体表面水体的负荷，该设计便于施工，有助于降低工程投资和施工难度。

附图说明

以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。其中：

图1是本实用新型实施例集水渠侧的剖面结构示意图；

图2是本实用新型实施例的俯视图；

图3是现有技术的俯视图；

图4是现有技术的剖面结构示意图；

图中：1-沉淀池体；2-集水渠；3-溢水槽。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，进一步阐述本实用新型。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。

如图1和图2所示，新型高密度沉淀池，包括沉淀池体1，在所述沉淀池体1内安装有斜板、刮泥机等污水池利用常规设备，用于对沉淀下来的污泥进行清理。本实施例在位于所述沉淀池体1一端的外侧设有集水渠2，所述集水渠2所述沉淀池体1内布置有若干溢水槽3，所述溢水槽3的出水端连通至所述集水渠2，所述溢水槽3与所述集水渠2垂直布置。所述集水渠2不再占用所述沉淀池体1的内部空间，消除了其对所述沉淀池体1内水面流动的影响，另外，所述溢水槽3在所述沉淀池体1内为整段式结构，减少了与所述集水渠2的连接端口，因此减小了施工难度。

本实施例所述集水渠2两侧及顶端分别与所述沉淀池体1齐平设置，即所述集水渠2的宽度与所述沉淀池体1的宽度相应。本实施例中的所述沉淀池体1为长方形结构，因此所述溢水槽3在所述沉淀池体1内沿水流方向顺行设置，所述沉淀池体1内水流方向与所述溢水槽3内水流方向一致，有助于减小所述溢水槽3对所述沉淀池体1内水流形成的阻力。

本实用新型虽然结构简单，但解决了现有技术中集水渠2对沉淀池体1内水流负荷大的弊端，将集水渠2外移设置在沉淀池体1的外侧，使斜板的有效使用面积增加15％以上，且在对斜板进行冲洗维护时，不会再产生冲洗死角，便于维护，集水渠2外设更有助于集水渠2的安装与维护，溢水槽3在沉淀池体1内为整段式设计，沉淀池体1上层清液溢流效率高，溢水槽3和集水渠2的上述布置，不会阻碍沉淀池体1内水体流动，因此最大程度地降低了对沉淀池体1表面水体的负荷，该设计便于施工，有助于降低工程投资和施工难度。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。