[实用新型]对流分子料理机

权利要求书

1.一种对流分子料理机，其包括底座、设置在所述底座上且具有开口朝上溶质空间的壳体、罩设在所述壳体开口部的罩壳、以及用于对位于所述壳体内加热介质进行加热的加热装置，其特征在于：在所述的壳体内还设有用于放置待加热物品且具有对流孔的对流架，所述的对流分子料理机还包括位于所述壳体内能够使得加热介质流动的搅拌机构、以及能够根据加热介质或所述待加热物品的温度智能控制所述加热装置工作的控制系统，其中在所述搅拌机构的带动下，位于所述对流架上下方的加热介质自所述的对流孔进行对流交换并形成环流。

2.根据权利要求1所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的对流架包括水平设置在所述壳体内且用于放置待加热物品的对流板、自所述对流板的底部向所述壳体底部延伸并形成底部敞开四周闭合的环形套，其中所述的对流孔设置在所述对流板上，在所述的搅拌机构的带动下，加热介质自所述环形套外周向上流过所述的对流板，然后自所述对流板流入所述环形套内并自底部流回所述环形套外周形成环流。

3.根据权利要求2所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的环形套位于所述对流板的中部，且在所述的环形套底部设有缺口，所述的缺口有多个，且绕着所述环形套周向分布，当加热介质流入所述环形套内后，自所述缺口向所述环形套外周流出。

4.根据权利要求2或3所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的搅拌机构包括马达、磁力转子、以及位于所述环形套底部且能够随着所述磁力转子的转动而转动的磁力扰流子。

5.根据权利要求4所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的马达和磁力转子均暗藏在所述底座内，所述的搅拌机构还包括用于向所述马达供电的电池组件。

6.根据权利要求1所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的控制系统包括用于检测所述壳体内加热介质温度或待加热产品温度的传感器、能够接收所述传感器的信息操控所述加热装置启停的处理单元。

7.根据权利要求6所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的处理单元包括能够有线或无线与所述的传感器信号连通的接收器、与所述接收器相连通且能够显示和设置加热温度和时间的用户终端、以及将所述用户终端与所述加热装置相连通的处理器，其中用户终端可以设定目标值，当加热介质温度或待加热产品温度达到设定目标值后，或者加热时间达到目标值时，所述的处理器向所述加热装置下达停止加热指令。

8.根据权利要求7所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的用户终端通过APP程序的电子产品来控制。

9.根据权利要求1所述的对流分子料理机，其特征在于：在所述壳体底部设置自底面向内凹陷的安装槽，所述的加热装置包括与所述安装槽相匹配的电加热盘。

10.根据权利要求1所述的对流分子料理机，其特征在于：所述的底座包括底板、自所述底板的外周自下而上外径逐渐变小的锥形台支撑部，所述的壳体底部架设在所述锥形台支撑部上。