[实用新型]一种高效率的软抛机有效
申请号: | 201721037652.8 | 申请日: | 2017-08-18 |
公开(公告)号: | CN207326708U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 吴琼;黎韦;郭宇 | 申请(专利权)人: | 福建兆元光电有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B57/02 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效率 软抛机 | ||
本实用新型公开了一种高效率的软抛机,包括工作台,还包括装有抛光液的抛光液桶;所述抛光液桶内还设有一个温控系统;所述工作台上方设有转动连接有一个转盘;所述工作台侧面上设有一个机械臂;所述转盘上设有抛光垫;所述抛光垫正上方设有一根喷洒管;所述喷洒管另一端连接有抽吸泵;所述抽吸泵的输入端伸入所述抛光液桶底部;所述抛光液桶的上部设有一个出料端与抛光液桶连通的氧化剂放置盒;所述氧化剂放置盒的出料端上设有阀门。本实用新型结合机械抛光和化学抛光大大提高了抛光效率。
技术领域
本实用新型涉及软抛机设备技术领域,尤其涉及一种高效率的软抛机。
背景技术
在LED半导体制造技术工艺中内,其中一个重要的步骤就是为晶圆片抛光;晶圆片抛光后的划痕深度为十几个微米,软抛可以使制程作业后的表面光亮如镜。但是,目前市面上的软抛机其切削速率极低。因此,设计一种高效率的软抛机,显得非常必要。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种高效率的软抛机。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种高效率的软抛机,包括工作台,还包括装有抛光液的抛光液桶;所述抛光液桶内还设有一个温控系统;所述工作台上方设有转动连接有一个转盘;所述工作台侧面上设有一个机械臂;所述转盘上设有抛光垫;所述抛光垫正上方设有一根喷洒管;所述喷洒管另一端连接有抽吸泵;所述抽吸泵的输入端伸入所述抛光液桶底部;所述抛光液桶的上部设有一个出料端与抛光液桶连通的氧化剂放置盒;所述氧化剂放置盒的出料端上设有阀门;所述机械臂包括固定在工作台侧面的竖直设置的液压升降柱;所述液压升降住上端固定连接有水平设置的固定板;所述固定板上设有电机一;所述电机一的主轴下端固定连接有连接轴;所述连接轴下端固定连接有一个真空发生器;所述真空发生器的下端连接有真空吸盘;所述真空吸盘位于抛光垫上方。
优选的,所述工作台为上端开口的桶状结构;所述转盘设于所述工作台上端开口处;所述工作台的内部水平设有一块隔板;所述隔板下方设有电机二;所述电机二的主轴上连接有竖直设置的转轴;所述转轴贯穿所述隔板,且上端与转盘固定连接。
优选的,所述隔板上部的工作台内部上通过一根连接管与抛光液桶连通。
优选的,所述温控系统包括设于抛光液桶内底部的电加热板、设于抛光液桶内壁的温度传感器、与温度传感器电连接的微处理器,以及与电加热板电连接的控制器;其中控制器与微处理器电连接。
优选的,所述抛光垫通过螺栓安装在所述转盘上。
优选的,所述连接轴与所述转轴的旋转方向相反
较之现有技术,本实用新型的优点在于:
本实用新型结合机械抛光和化学抛光共同作用大大提高了抛光效率;本实用新型通过设置机械臂上的真空发生器和真空吸盘可以将待软抛处理的晶圆片吸附住,并通过电机一作用带动其旋转,使其与抛光垫之间旋转摩擦;而且通过设置喷洒管可以将抛光液抽到抛光垫上,随着转盘的转动,会产生离心力,从而会将流到抛光垫上的抛光液均匀分散到抛光垫的表面,从而使晶圆片打磨效果更佳。而且本实用新型在抛光液桶上设置有氧化剂盒,将氧化剂盒内的氧化剂放入抛光液内尅产生化学机械抛光效果,从而提高抛光效果。并且抛光液桶内设有温控系统,从而可以使抛光液处于一定合适的温度范围内,从而调高化学反应速率,进一步提高了抛光效果。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型内部的结构示意图;
图3为本实用新型左视截面图;
图4为本实用新型温控系统的流程图。
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