[实用新型]处理腔室及用于外延腔室中的部件和锥体

权利要求书

1.一种处理腔室，其特征在于包括：

基座，所述基座被定位在位于所述处理腔室的第一侧上的气体引入端口与位于所述处理腔室的第二侧上的气体排放端口之间；

圆顶，所述圆顶在所述处理腔室中在所述基座上方；以及

板，所述板在所述处理腔室中在所述圆顶上方，所述板具有中心开口并且支撑在所述中心开口中由两个或更多个间隙横向分离的至少两个部件，每个部件具有：

上部区域，所述上部区域具有凹形内表面和凸形外表面；以及

下部区域，所述下部区域从所述上部区域向内渐缩。

2.如权利要求1所述的处理腔室，其特征在于每个部件的所述上部区域具有固定曲率半径，并且每个部件的所述下部区域具有变化曲率半径。

3.如权利要求1所述的处理腔室，其特征在于每个部件的所述上部区域具有接触所述板的唇缘。

4.如权利要求1所述的处理腔室，其特征在于进一步包括腔室盖，所述腔室盖在所述板中的所述中心开口上方支撑两个高温计。

5.如权利要求4所述的处理腔室，其特征在于至少一个高温计被定位在所述两个或更多个间隙的至少一个间隙上方的所述腔室盖上。

6.如权利要求1所述的处理腔室，其特征在于包括在所述板下方的多个灯。

7.如权利要求1所述的处理腔室，其特征在于在所述处理腔室中的所述板是环形板并且每个部件具有：

部分圆柱形区域，所述部分圆柱形区域具有第一凹形内表面、第一凸形外表面、以及所述第一凹形内表面的固定曲率半径；以及

部分圆锥形区域，所述部分圆锥形区域具有第二凹形内表面、第二凸形外表面、以及所述第二凹形内表面的变化曲率半径，其中所述第二凹形内表面从所述部分圆柱形区域延伸至小于所述固定曲率半径的第二曲率半径。

8.如权利要求7所述的处理腔室，其特征在于所述至少两个部件的第一部件的所述部分圆柱形区域具有接触所述环形板的唇缘并且所述至少两个部件的第二部件的所述部分圆柱形区域具有接触所述环形板的唇缘。

9.如权利要求7所述的处理腔室，其特征在于进一步包括腔室盖，所述腔室盖在所述环形板中的所述中心开口上方支撑两个高温计。

10.如权利要求9所述的处理腔室，其特征在于至少一个高温计被定位在所述两个或更多个间隙的至少一个间隙上方的所述腔室盖上。

11.一种用于外延腔室中的部件，其特征在于所述部件包括：

部分圆柱形区域，所述部分圆柱形区域具有第一凹形内表面、第一凸形外表面、以及所述第一凹形内表面的固定曲率半径；以及

部分圆锥形区域，所述部分圆锥形区域具有第二凹形内表面、第二凸形外表面、以及所述第二凹形内表面的变化曲率半径，其中所述第二凹形内表面从所述部分圆柱形区域延伸至小于所述固定曲率半径的第二曲率半径。

12.如权利要求11所述的部件，其特征在于所述部分圆柱形区域进一步包括从所述第一凸形外表面向外延伸的唇缘。