[实用新型]一种带自动溶剂清洗的反应釜

说明书

技术领域

本实用新型涉及反应釜，具体的说是一种带自动溶剂清洗的反应釜。

背景技术

反应釜在长期使用后釜壁由于清洗不完全会会出现“结锅巴”的现象，会对其他混合液体的反应反应产生影响，严重情况下导致反应后所得到的物体不是原本所需要的物体，由于反应釜体积较大，现有技术难以清洗完全，尤其是对反应后不产生气体的反应釜而言，清洗一次需要花费很长时间将上封头打开，在不打开上封头的情况下很难讲反应釜清洗完全。

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种能够自动对反应釜壁进行清洗的反应釜。

为了达到上述目的本实用新型是通过以下技术方案来实现的：

本实用新型是一种带自动溶剂清洗的反应釜，包括反应釜本体和上封头，上封头固定在反应釜本体上端，在上封头上端的中间位置设置有电机，在电机下端设置有减速机，减速机与传动轴相连，传动轴通过联轴器与搅拌轴相连，其特征在于：在联轴器下端的上封头上设置有封板，在封板下端上清洗液分布装置和下清洗液分布装置，在上清洗液分布装置和下清洗液分布装置的中间位置固定有轴承，在上封头上设置有第一清洗液进口和第二清洗液进口，第一清洗液进口与第二清洗液进口通过管道与设置在上封头外侧的溶剂罐相连，第一清洗液进口和第二清洗液进口分别通过管道与上清洗液分布装置和下清洗液分布装置相连。

本实用新型的进一步改进在于：进料口和出料口分别设置在上封头上端和反应釜本体下端。

本实用新型的进一步改进在于：上清洗液分布装置包括下底板、中部导流板、上固定板和溶剂槽，上固定板固定在上封头内上，在中部导流板与上固定板之间均匀间隔设置有连接块，每两个相邻的连接块形成一个导流通道，溶剂槽与导流通道相通。

本实用新型的进一步改进在于：下清洗液分布装置包括下底板、中部导流板、上固定板和溶剂槽，中部导流板的两端分别与溶剂槽和下底板相连，在中部导流板上端的溶剂槽四周均匀设置有数个出液口。

本实用新型的进一步改进在于：下清洗液分布装置的上固定板通过固定块与上清洗液分布装置的下底板相连，在两个上固定板上均设置有连接管道的进液管口。

本实用新型的有益效果是：上清洗液分布装置能够对反应釜本体的内壁进行初步冲洗，下清洗液分布装置能够对上清洗液分布装置冲洗不到的局部进行补充冲洗，不需要打开上封头就可以对反应釜本体内壁进行清洗，在每次反应釜使用结束后打开控制第一清洗液进口和第二清洗液进口管道的阀门即可对反应釜本体进行清洗，节省清洗时间，同时减少劳动力投入，降低生产成本。

本实用新型结构简单、设计合理，便于对反应釜内进行清洗，有效防止“结锅巴”的现象。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

图2是上、下清洗液分布装置示意图。

其中：1-反应釜本体，2-上封头，3-封板，4-第一清洗液进口，5-第二清洗液进口，6-溶剂罐，7-下底板，8-中部导流板，9-上固定板，10-溶剂槽。

具体实施方式

为了加强对本实用新型的理解，下面将结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细描述，该实施例仅用于解释本实用新型，并不对本实用新型的保护范围构成限定。