[实用新型]一种隐藏光源式大视场均匀光源系统有效

专利信息
申请号: 201720972486.4 申请日: 2017-08-04
公开(公告)号: CN207213715U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 于立民 申请(专利权)人: 上海倍蓝光电科技有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V7/22;F21V5/08;G01M11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201517 上海市金山*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 隐藏 光源 视场 均匀 系统
【权利要求书】:

1.一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,包括积分球、光源和电气接口,所述积分球的内层为积分球球壁,所述积分球的球体上设有输入口,所述输入口的开口侧壁上设有光源,所述光源连接电气接口,所述积分球内还设有挡板,所述挡板设于光源与积分球球壁之间,并与光源无缝相连,所述光源中设有通道。

2.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述积分球球壁内设有高反射涂层。

3.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述光源为中空锥体,中空部分即为通道。

4.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述挡板为漫透射挡板。

5.根据权利要求4所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述漫透射挡板为亚克力挡板。

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