[实用新型]一种隐藏光源式大视场均匀光源系统有效
申请号: | 201720972486.4 | 申请日: | 2017-08-04 |
公开(公告)号: | CN207213715U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 于立民 | 申请(专利权)人: | 上海倍蓝光电科技有限公司 |
主分类号: | F21S2/00 | 分类号: | F21S2/00;F21V7/22;F21V5/08;G01M11/00 |
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地址: | 201517 上海市金山*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 隐藏 光源 视场 均匀 系统 | ||
1.一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,包括积分球、光源和电气接口,所述积分球的内层为积分球球壁,所述积分球的球体上设有输入口,所述输入口的开口侧壁上设有光源,所述光源连接电气接口,所述积分球内还设有挡板,所述挡板设于光源与积分球球壁之间,并与光源无缝相连,所述光源中设有通道。
2.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述积分球球壁内设有高反射涂层。
3.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述光源为中空锥体,中空部分即为通道。
4.根据权利要求1所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述挡板为漫透射挡板。
5.根据权利要求4所述的一种隐藏光源式大视场均匀光源系统,其特征在于,所述漫透射挡板为亚克力挡板。
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