[实用新型]用于激光制样‑质谱氧同位素组成分析的激光池装置

权利要求书

1.用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：该装置包括激光窗上法兰(2)、激光窗(4)、激光腔上腔体(6)、第一真空管路(7)、第二真空管路(8)、样品池(12)、激光腔下腔体(13)和激光池底座(15)，激光腔上腔体(6)上方设有激光窗上法兰(2)，激光腔上腔体(6)与激光窗上法兰(2)之间设有激光窗(4)，第一真空管路(7)、第二真空管路(8)对称设在激光腔上腔体(6)两侧，激光腔上腔体(6)下方设有激光腔下腔体(13)，激光腔下腔体(13)下部内放置样品池(12)，激光腔下腔体(13)底部放置在激光池底座(15)上。

2.根据权利要求1所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的激光腔上腔体(6)与激光窗上法兰(2)内侧之间形成环形凹槽，激光窗(4)的边缘嵌在该环形凹槽内。

3.根据权利要求2所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的激光窗(4)与激光腔上腔体(6)之间通过八个内六角螺栓(1)固定连接。

4.根据权利要求3所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的第一真空管路(7)、第二真空管路(8)对称设置在激光腔上腔体(6)的1/2高度位置，且第一真空管路(7)、第二真空管路(8)均与激光腔上腔体(6)内部连通。

5.根据权利要求4所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的激光腔上腔体(6)与激光腔下腔体(13)之间通过卡箍(11)固定连接。

6.根据权利要求5所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的样品池(12)的上表面覆盖有盖样片(10)。

7.根据权利要求6所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的样品池(12)具有一个中心孔和均匀分布的36个小孔，该中心孔内具有螺纹。

8.根据权利要求7所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的样品池(12)的中心孔内设有样品池提取器(14)，样品池提取器(14)具有与中心孔相匹配的外螺纹。

9.根据权利要求8所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的激光池底座(15)外部为正方形，激光池底座(15)内部为中空的台阶圆柱孔，上部圆柱孔的直径大于下部圆柱孔的直径，激光池底座(15)的四角各开有一个圆孔，用于激光池底座(15)与实验台之间的固定；激光腔下腔体(13)和样品池(12)底部均放置在激光池底座(15)圆柱孔的台阶上。

10.根据权利要求9所述的用于激光制样-质谱氧同位素组成分析的激光池装置，其特征在于：所述的激光窗(4)上端面与激光窗上法兰(2)之间设有第一氟橡胶O形圈(3)，所述的激光窗(4)下端面与激光腔上腔体(6)之间设有第二氟橡胶O形圈(5)，激光腔上腔体(6)与激光腔下腔体(13)连接处放置第三氟橡胶O形圈(9)。