[实用新型]研磨抛光托架和扫光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及机床技术领域，特别涉及一种研磨抛光托架和扫光机。

背景技术

随着工艺品质要求的越来越高，对产品进行扫光研磨的要求越来越多。

通常研磨抛光是机械加工的最后一道工序，研磨抛光的好坏在很大程度上决定了产品的质量。在抛光研磨实际加工时电机带动圆盘转动，圆盘转速不能太高，保证研磨抛光的平稳进行。

但是，现有圆盘结构的难以适应高速旋转，则导致扫光研磨时圆盘转速低，从而加工效率很低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种研磨抛光托架和扫光机，旨在增加旋转稳定性。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种研磨抛光托架，用于扫光机，其特征在于，所述研磨抛光托架包括中心盘、幅板和多个行星支撑盘；

所述中心盘用于与扫光机转动连接；所述幅板与所述中心盘连接并且位于所述中心盘的周侧，所述幅板沿着所述中心盘的径向向外延伸；所述行星支撑盘设置于所述幅板上。

可选的，所述幅板上还设有加强筋，所述加强筋沿着所述中心盘的径向延伸。

可选的，所述幅板上还开设有镂空孔。

可选的，所述研磨抛光托架的上侧用于朝向扫光盘；

所述幅板的上表面为光面，所述加强筋连接于所述幅板的下表面。

可选的，所述幅板呈圆盘状设置；多个所述行星支撑盘沿着所述幅板的外侧边缘均匀设置；

所述幅板沿着其周向设置有循环状排布的多个加强区和镂空区；所述加强区位于所述行星支撑盘和所述中心盘之间，所述镂空区位于两个所述加强区之间；

所述加强筋设置于所述加强区；所述镂空孔设于所述镂空区。

可选的，所述幅板的上表面呈中部高边缘低的斜坡面。

可选的，所述行星支撑盘呈上下方向延伸的空心圆柱状，所述行星支撑盘突出于所述幅板的上表面和下表面；

所述中心盘呈上下方向延伸的空心圆柱状，所述中心盘突出于所述幅板的上表面和下表面。

可选的，所述行星支撑盘的上表面低于所述中心盘的上表面。

可选的，所述行星支撑盘的上表面设有用于连接行星盘的连接孔。

本实用新型还通了一种扫光机，包括上扫光盘和对应的下支撑盘，所述下支撑盘包括上述的研磨抛光托架，以及转动安装于所述研磨抛光托架上的行星盘；

所述扫光盘在对待加工件进行扫光时，所述研磨抛光托架自转，所述行星盘自转，用以带动待加工件复合转动；所述上扫光盘自转，用以对待加工件进行扫光。

本实用新型研磨抛光托架和扫光机，通过设置磨抛光托架包括中心盘和行星支撑盘，中间通过幅板连接，则整体为幅板状。相对于传统的整体状圆盘，则具有结构更紧凑，重量更轻，旋转稳定性更好的优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型研磨抛光托架一实施例的结构示意图；

图2为图1所示研磨抛光托架在另一视角时的结构示意图。

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。