[实用新型]磨盘有效
申请号: | 201720927573.8 | 申请日: | 2017-07-27 |
公开(公告)号: | CN207839099U | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 边浩光 | 申请(专利权)人: | 无锡新光粉体科技有限公司 |
主分类号: | B02C7/12 | 分类号: | B02C7/12 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 夏静洁 |
地址: | 214181 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 动盘 沟槽区域 中心区域 动磨盘 边缘区域 下表面 磨盘 本实用新型 平行设置 研磨 静磨盘 上表面 预设 分散效果 设置方式 相对设置 研磨物 边界线 弧面 流通 | ||
本实用新型公开了一种磨盘,包括:均为圆柱形的动磨盘和静磨盘,动磨盘的下表面与静磨盘的上表面相对设置;动磨盘的下表面设置有中心区域,由中心区域向边缘区域设置有第一预设数量的动盘沟槽区域,各动盘沟槽区域内的动盘沟槽相互平行设置,平行设置的动盘沟槽与动盘沟槽区域的边界线之间形成第一预设角度的夹角,中心区域的厚度小于边缘区域的厚度,动盘沟槽区域由中心区域向边缘区域形成第一弧面;静磨盘的上表面的设置方式与动磨盘的下表面类似。通过本实用新型的技术方案,提高了对待研磨物的分散效果,加速了物料的流通速度,增强了研磨质量和研磨效果。
技术领域
本实用新型涉及磨具技术领域,尤其涉及一种磨盘。
背景技术
目前,石墨烯分散和纳米碳管分散使用的磨盘为一静一动上下两个磨盘,动磨盘(上)和静磨盘(下)之间的研磨方式为平面研磨,可实现高粘度纳米材料石墨烯和纳米碳管(CNT)的研磨。石墨烯为分层状结构,目前研磨机剥离工艺对石墨烯分层会有一定的破碎作用,不利于石墨烯导电特性发挥;纳米碳管为长条形结构,平面磨盘一方面会破坏碳管的长度,另一方面还会导致碳管表面粗糙,破坏碳管的光滑性,影响电子在碳管上的顺畅运动。所以现有的研磨设备使用的平面磨盘最大的弊病就是研磨出来的材料质量比较低。
现有石墨烯材料在制备导电浆料时,需要将10层以上石墨烯薄片充分分散开,而且不能将粉体打碎,故需要更加强大的离心加速才能有效分离团聚的石墨烯粉体。但是现有的磨盘加速度不够,需要100m/s以上线速度还不能有效分离。
对于细的纳米管或者单壁纳米碳管,由于管子直径只有10nm以下,故高离心力才能保证在不破坏管壁长度和不对管壁造成负面影响下达到分散的作用。故现有技术中的普通磨盘状态也需要100m/s以上线速度,效果才能比较好。此外,对于单纯地提高机械的高转速,则磨盘的成本和寿命很难两全。
实用新型内容
针对上述问题中的至少之一,本实用新型提供了一种磨盘,在磨盘的磨面上设置弧形及沟槽的结构,经过无数次的严格实验确定出弧形的角度,而沟槽则会增加摩擦阻力,并且弧形和沟槽结构对料浆具有加速作用和导向作用,使料浆在高速下离心分离,摩擦更柔软,对石墨烯和纳米碳管的表面产生零伤害,同时磨盘曲线改造设计后,在80m/s线速度以下就分散的很好,在机械高速上有一定局限性的情况下提高了对石墨烯和纳米碳管的分散作用。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种磨盘,包括:均为圆柱形的动磨盘和静磨盘,所述动磨盘的下表面与所述静磨盘的上表面相对设置;所述动磨盘的下表面设置有中心区域,由中心区域向边缘区域设置有第一预设数量的动盘沟槽区域,各动盘沟槽区域内的动盘沟槽相互平行设置,平行设置的所述动盘沟槽与所述动盘沟槽区域的边界线之间形成第一预设角度的夹角,所述中心区域的厚度小于边缘区域的厚度,所述动盘沟槽区域由中心区域向边缘区域形成第一弧面;所述静磨盘的上表面设置有中心区域,由中心区域向边缘区域设置有第二预设数量的静盘沟槽区域,各静盘沟槽区域内的静盘沟槽相互平行设置,平行设置的所述静盘沟槽与所述静盘沟槽区域的边界线之间形成第二预设角度的夹角,所述静磨盘的上表面中心区域的厚度小于边缘区域的厚度,所述静盘沟槽区域由中心区域向边缘区域形成第二弧面。
在上述技术方案中,优选地,动盘沟槽与所述动盘沟槽区域的边界线形成夹角的范围为20-60度,所述静盘沟槽与所述静盘沟槽区域的边界线形成夹角的范围为20-60度。
在上述技术方案中,优选地,所述动盘沟槽区域由中心区域向边缘区域形成的第一弧面对应的角度范围为5-10度,所述静盘沟槽区域由中心区域向边缘区域形成的第二弧面对应的角度范围为5-10度。
在上述技术方案中,优选地,所述动盘沟槽区域斜向分布,其倾斜角度为10-50度,所述静盘沟槽区域与所述动盘沟槽区域的倾斜方向相反,所述静盘沟槽区域的倾斜角度为10-50度。
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