[实用新型]一种曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机。

背景技术

曝光机是指通过开启灯光发出紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上，集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。其广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。曝光机是20世纪60年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业。在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。PCB(印制电路板)加工的质量、精度等问题取决于曝光机的性能。绿色、节能、高精度、高性能，是电路板印刷制造行业的重要设备曝光机不断改进的方向。

实用新型内容

为了解决传统曝光机在绿色、节能、高精度、高性能不足的技术问题，本实用新型提供一种曝光机，采用更环保、更绿色的LED灯模组，利用人机界面和PLC可编程控制器精确控制曝光时间，具有能耗低，寿命长，稳定性高，无污染的特点。

本实用新型公开了一种曝光机，包括机座、设置于机座内的曝光室，其特征在于，所述的曝光机还包括：用于放置PCB板及底片的曝光框架、第一LED灯模组、第二LED灯模组、冷却系统、真空系统及电控系统，所述的第一LED灯模组设置于所述曝光室顶部，所述的第二LED灯模组设置于所述曝光室底部，所述的真空系统用于对所述的曝光框架抽真空，所述的冷却系统用于对所述的第一LED灯模组及第二LED灯模组进行冷却散热，所述电控系统连接所述的第一LED灯模组及第二LED灯模组用于控制曝光时间。

进一步地，所述的第一LED灯模组呈线性排列。

进一步地，所述的第二LED灯模组呈线性排列。

进一步地，所述的电控系统为人机界面和PLC可编程控制器组成，所述人机界面连接所述PLC可编程控制器。

进一步地，所述的电控系统包括手动模式电路模块和自动模式电路模块。

进一步地，所述的机座还设置用于对所述曝光框架进行排除空气的赶气装置。

进一步地，所述的机座还设置用于对所述曝光框架进行除去灰尘杂质的粘尘装置。

进一步地，所述的机座具有二个曝光框架，以致可以交替进入曝光室进行曝光。

实施本实用新型提出的一种曝光机，具有以下有益的技术效果：

区别于传统的曝光机在绿色、节能、高精度不足的问题，本实用新型提供了一种曝光机，采用更环保、更绿色的LED灯模组，具有冷却LED灯模组的冷却系统；设置有赶气装置和粘尘装置，使PCB板与底片贴合更紧，曝光更充分；利用人机界面和PLC可编程控制器精确控制曝光时间，因此设备具有能耗低，寿命长，稳定性高，无污染的特点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的实施例一种曝光机结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型的实施例，一种曝光机100，包括机座1、设置于机座1内的曝光室2，曝光机100还包括：用于放置PCB板及底片的曝光框架3、第一LED灯模组、第二LED灯模组、冷却系统、真空系统及电控系统，第一LED灯模组设置于曝光室2顶部，第二LED灯模组设置于曝光室2底部，真空系统用于对曝光框架3抽真空，冷却系统用于对第一LED灯模组及第二LED灯模组进行冷却散热，电控系统连接第一LED灯模组及第二LED灯模组用于控制曝光时间。

根据一个具体实施例，该第一LED灯模组呈线性排列。

根据一个具体实施例，该第二LED灯模组呈线性排列。

根据一个具体实施例，该电控系统为人机界面4和PLC可编程控制器组成，人机界面4连接PLC可编程控制器。