[实用新型]一种曝光机用的赶气装置有效

专利信息
申请号: 201720902344.0 申请日: 2017-07-25
公开(公告)号: CN207181950U 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 付菊玲 申请(专利权)人: 深圳市欣光辉科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种曝光机的技术领域,特别涉及一种曝光机用的赶气装置。

背景技术

曝光机是现代制造印刷线路板PCB必不可少的设备,印制电路板制造工艺中,最关键的工序之一就是将底片图像转移到敷铜箔基材上。先在基板上涂覆一层感光材料(如液态感光胶、光敏抗蚀干膜等),然后对涂覆在基材上的光敏性物质进行光辐射,使其溶解性发生变化,未感光部分的树脂没有聚合,在显影液作用下溶解,感光部分的树脂留在基材上形成图像,这一工艺过程即是曝光,也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。曝光过程中,底片和PCB板应尽可能贴合紧密,感光材料在紫外光辐射下,聚合反应应尽可能隔绝空气,因空气中的氧气活性大,会抑制其它自由基的联结,降低聚合反应的速率。为了贴合紧密,通常采用抽真空的办法,但是抽真空也很难保证贴合紧密。

实用新型内容

为了解决传统曝光机抽真空来解决底片和PCB板难以做到贴合紧密的问题,本实用新型提供了一种曝光机用的赶气装置,能够做到排气充分,解决曝光机底片和PCB板贴合紧密问题,其装置结构简单,曝光充分。

本实用新型公开了一种曝光机用的赶气装置,包括:曝光机设置用于对PCB板进行曝光的曝光框架,所述的赶气装置包括支架、固定在支架上的赶气滚轮、Y轴位移气缸、X轴位移电机,所述Y轴位移气缸控制所述赶气滚轮作上下移动,所述X轴位移电机带动所述赶气滚轮作水平移动,使所述赶气滚轮在曝光框架上滚动以排出空气。

进一步地,所述的赶气滚轮由软性材料制成。

进一步地,所述的赶气装置有控制所述赶气滚轮的滚动位置的限位开关。

进一步地,所述的赶气装置有控制所述赶气滚轮的上下位移的导轨,所述的导轨与所述的Y轴气缸相连接。

进一步地,所述的导轨有二个。

实施本实用新型提出的一种曝光机用的赶气装置,具有以下有益的技术效果:

区别于传统的曝光机采用抽真空的方法,难以完全排除底片和PCB板之间的空气问题,本实用新型提供了一种曝光机用的赶气装置,采用滚动排气的方式,在抽真空排气的基础上,更进一步排出空气,能够使曝光机底片和PCB板贴合紧密,曝光反应更完全、更充分。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的实施例一种曝光机用的赶气装置的结构分解示意图。

图2为本实用新型的实施例一种曝光机用的赶气装置的支架示意图。

图3为本实用新型的实施例一种曝光机用的赶气装置安装在曝光机上的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1、图2及图3,本实用新型的实施例,一种曝光机用的赶气装置1,包括:曝光机设置用于对PCB板进行曝光的曝光框架50,赶气装置1还包括支架10、固定在支架10上的赶气滚轮60、Y轴位移气缸20、X轴位移电机30,Y轴位移气缸20控制赶气滚轮60作上下移动,X轴位移电机30带动赶气滚轮60作水平移动,使赶气滚轮60在曝光框架50上滚动以排出空气。

根据一个具体实施例,该赶气滚轮60由软性材料制成。

根据一个具体实施例,该赶气装置1有控制赶气滚轮60的滚动位置的限位开关。

根据一个具体实施例,该赶气装置1有控制赶气滚轮60的上下位移的导轨40,导轨40与Y轴位移气缸20相连接。

根据一个具体实施例,该导轨40有二个。

下面进一步说明如下:

本实用新型提出的一种曝光机用的赶气装置,主要用于曝光机在曝光反应进行之前,在真空泵抽完真空后,采用赶气滚轮在曝光框架上滚过达到完全排出空气,使底片和PCB板尽可能贴合紧密,这样感光材料在紫外光辐射下,聚合反应才能快速、充分。尽可能要排出底片和PCB板之间的空气,是因为空气中的氧气活性大,会抑制其它自由基的联结,降低聚合反应的速率,曝光不充分。

经实践证实,本实用新型优点在于:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市欣光辉科技有限公司,未经深圳市欣光辉科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720902344.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top