[实用新型]一种单边循环碱洗槽有效
| 申请号: | 201720861977.1 | 申请日: | 2017-07-17 |
| 公开(公告)号: | CN206976297U | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
| 发明(设计)人: | 邵玉林 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
| 地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 单边 循环 碱洗槽 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种碱洗槽,特别是涉及一种单边循环碱洗槽。
背景技术
制绒清洗机的主要功能是对太阳能电池硅片进行扩散前的清洗处理,是一个集制绒、清洗处理为一体的全自动设备。兼容单多晶硅电池片绒面制备,通过实验、生产考验,改进后的多晶制绒控温方式,可获得合格的多晶绒面。该设备主要由主体、工艺槽、移载机械手、管道系统、电气控制系统等部分组成,其中碱洗槽是设备的重要组成部分,用于将电池硅片放置在其中进行浸泡,传统的结构设计简单,工作效率低,因此本实用新型设计一种单边循环碱洗槽以解决现有技术中存在的问题,经检索,未发现与本实用新型相同或相似的技术方案。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种单边循环碱洗槽,以解决现有技术中结构设计简单,工作效率低的问题。
为达到上述目的,本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种单边循环碱洗槽,包括主槽、嵌套设置在主槽下端的副槽、设置在主槽与副槽之间的若干导液装置及回流装置;所述主槽上端向外延伸一架设在副槽上端面的支撑板,一端侧壁上端具有一溢流槽;所述副槽与主槽之间形成一截面呈U型的空腔;所述导液装置并列设置在空腔下端,包括转轴及设置在转轴侧壁上的螺旋导液板;所述转轴内部沿中轴线方向设置有电加热丝;所述回流装置包括固定在一侧空腔上端的抽液泵、与抽液泵连接的回流管及延伸至主槽内出液管;所述回流管沿竖直方向设置在空腔内,下端延伸至螺旋导液板端部,上端从主槽上端侧壁处延伸至主槽下端;所述出液管与回流管相连通,并通过若干固定扣固定在主槽底部,该出液管上端面沿中轴线方向均布若干出液口。
进一步的,所述溢流槽下端面呈锯齿状。
进一步的,所述螺旋导液板的高度与空腔下端水平段的高度相同。
进一步的,所述空腔下端均布设置若干导液装置,相邻导液装置之间设置有一隔板,相邻所述隔板之间的距离与螺旋导液板的高度相同。
由于上述技术方案的运用,本实用新型与现有技术相比具有下列有益效果:
(1)太阳能电池硅片用碱洗槽的工作环境一般为:溶剂:NaOH溶液、工作温度:75~80℃、浸泡时间:900s;因此本实用新型设计了合理的导液装置,在导液过程中能够不断对液体进行加热,既保证溶液的工作温度,又能保证液体流动的高效平稳性;
(2)溢流槽下端面呈锯齿状,方便液体的流出,保证结构设计的合理性;
(3)螺旋导液板的高度与空腔下端水平段的高度相同,同时相邻导液装置之间设置有一隔板,相邻隔板之间的距离与螺旋导液板的高度相同,保证液体均能通过导液板的运动实现流动,并在流动过程中进行合理加热。
附图说明
图1是本实用新型所述结构的示意图。
图2是本实用新型所述主槽侧壁的结构示意图。
图3是本实用新型的A-A视图。
图4是本实用新型的B-B视图。
图中1、主槽,2、支撑板,3、溢流槽,4、副槽,5、空腔,6、转轴,7、螺旋导液板,8、电加热丝,9、抽液泵,10、回流管,11、出液管,12、固定扣,13、出液口,14、隔板。
具体实施方式
下面结合具体实施例,对本实用新型的内容做进一步的详细说明:
如图1-4所示,一种单边循环碱洗槽,包括主槽1、嵌套设置在主槽1下端的副槽4、设置在主槽1与副槽4之间的若干导液装置及回流装置;主槽1上端向外延伸一架设在副槽4上端面的支撑板2,一端侧壁上端具有一溢流槽3,溢流槽3下端面呈锯齿状;副槽4与主槽1之间形成一截面呈U型的空腔5;导液装置并列设置在空腔5下端,包括转轴6及设置在转轴6侧壁上的螺旋导液板7;转轴6内部沿中轴线方向设置有电加热丝8;回流装置包括固定在一侧空腔5上端的抽液泵9、与抽液泵9连接的回流管10及延伸至主槽1内出液管11;回流管10沿竖直方向设置在空腔5内,下端延伸至螺旋导液板7端部,上端从主槽1上端侧壁处延伸至主槽1下端;出液管11与回流管10相连通,并通过若干固定扣12固定在主槽1底部,该出液管11上端面沿中轴线方向均布若干出液口13;最为本实用新型的进一步优化,螺旋导液板7的高度与空腔5下端水平段的高度相同;空腔5下端均布设置若干导液装置,相邻导液装置之间设置有一隔板14,相邻隔板14之间的距离与螺旋导液板7的高度相同。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





