[实用新型]一种移动式等离子体危险废物处理装置有效
| 申请号: | 201720858265.4 | 申请日: | 2017-07-15 |
| 公开(公告)号: | CN207188429U | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
| 发明(设计)人: | 郑海雁;郭艳玲;徐建永 | 申请(专利权)人: | 云南银发绿色环保产业股份有限公司 |
| 主分类号: | B09B3/00 | 分类号: | B09B3/00 |
| 代理公司: | 重庆创新专利商标代理有限公司50125 | 代理人: | 宫兆斌 |
| 地址: | 650000 云南省昆明市高新区海*** | 国省代码: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 移动式 等离子体 危险废物 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于危废处理技术领域,具体涉及一种移动式等离子体危险废物处理装置。
背景技术
随着工业的发展,工业生产过程排放的危险废物日益增多。据估计,全世界每年的危险废物产生量为3.3亿吨。由于危险废物带来的严重污染和潜在的严重影响,在工业发达国家危险废物已称为"政治废物",公众对危险废物问题十分敏感,反对在自己居住的地区设立危险废物处置场,加上危险废物的处置费用高昂,一些公司极力试图向工业不发达国家和地区转移危险废物。现在由于危险废物的分布比较分散,而传统的等离子体危险废物处理装置由于体积大,移动不便,但是危险废物在运输过程中比较危险,因此我们需要一款新型的移动式等离子体危险废物处理装置来解决上述问题,满足人们的需求。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种移动式等离子体危险废物处理装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种移动式等离子体危险废物处理装置,包括装置主体,所述装置主体的表面设有外壳,所述装置主体的上方设有进料口,所述装置主体内部上方设有转轴,所述转轴的左侧和右侧均设有碾磨装置,所述转轴的下方设有抽拉板,所述抽拉板的下方设有等离子体反应装置,所述等离子体反应装置的下方设有螺旋输送板,所述螺旋输送板下方的左侧和右侧均设有急冷装置,所述急冷装置的下方设有排气装置,所述装置主体的底端设有滚轮装置。
优选的,所述碾磨装置包括碾磨柱和滑轨,所述碾磨柱设置在碾磨装置的上方,所述滑轨设置在碾磨柱的下方。
优选的,所述等离子体反应装置包括等离子体反应系统和烟气净化系统,所述等离子体反应系统设置在等离子体反应装置的中间,所述烟气净化系统设置在等离子体反应系统的表面。
优选的,所述急冷装置包括冷凝器和喷孔,所述冷凝器设置在急冷装置的表面,所述喷孔设置在急冷装置的表面。
优选的,所述排气装置包括排气孔和排风扇,所述排气孔设置在排气装置的表面,所述排风扇设置在排气孔的内部。
优选的,所述滚轮装置包括支撑柱和滚轮,所述支撑柱设置在滚轮装置的表面,所述滚轮设置在支撑柱的下方。
本实用新型的技术效果和优点:1、碾磨装置的设置能够使得危险废物碾磨成粉末状或成液体状,而抽拉板便于将危险废物转移到等离子体反应装置中;
2、急冷装置能够迅速将反应过的危险废物降低温度,避免高温对整个装置的破坏,而排风口能够将纯净的气体排出到外界去;
3、滚轮装置的设置便于整个装置的移动。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的俯视图;
图3为本实用新型滚轮装置的结构示意图。
图中:1、装置主体;2、外壳;3、进料口;4、转轴;5、碾磨装置;51、碾磨柱;52、滑轨;6、抽拉板;7、等离子体反应装置;71、等离子体反应系统;72、烟气净化系统;8、螺旋输送板;9、急冷装置;91、冷凝器;92、喷孔;10、排气装置;101、排气孔;102、排风扇;11、滚轮装置;111、支撑柱;112、滚轮。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1、图2和图3所示的一种移动式等离子体危险废物处理装置,包括装置主体1,所述装置主体1的表面设有外壳2,所述装置主体1的上方设有进料口3,所述装置主体1内部上方设有转轴4,所述转轴4的左侧和右侧均设有碾磨装置5,所述转轴4的下方设有抽拉板6,所述抽拉板6的下方设有等离子体反应装置7,所述等离子体反应装置7的下方设有螺旋输送板8,所述螺旋输送板8下方的左侧和右侧均设有急冷装置9,所述急冷装置9的下方设有排气装置10,所述装置主体1的底端设有滚轮装置11。
进一步地,所述碾磨装置5包括碾磨柱51和滑轨52,所述碾磨柱51设置在碾磨装置5的上方,所述滑轨52设置在碾磨柱51的下方。
进一步地,所述等离子体反应装置7包括等离子体反应系统71和烟气净化系统72,所述等离子体反应系统71设置在等离子体反应装置7的中间,所述烟气净化系统72设置在等离子体反应系统71的表面。
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