[实用新型]具有空腔的石墨烯基复合薄膜

权利要求书

1.一种具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，包括：

底层石墨烯薄膜；

形成于底层石墨烯薄膜上的多个重复排列的纳米晶图案单元；每个纳米晶图案单元具有第一纳米晶阵列以及位于第一纳米晶阵列周围的第二纳米晶支撑柱；第二纳米晶支撑柱的顶部高于第一纳米晶阵列的顶部；

顶层石墨烯薄膜，覆盖于所述纳米晶图案单元顶部，并且与第二纳米晶支撑柱的顶部接触而与第一纳米晶阵列的顶部不接触，多个纳米晶图案单元与顶层石墨烯之间形成多个封闭空腔；其中，每个封闭空腔由顶层石墨烯薄膜、第二纳米晶支撑柱、第一纳米晶阵列之间围成。

2.根据权利要求1所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，单个所述纳米晶图案单元呈圆形、矩形、或蝴蝶结形。

3.根据权利要求2所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，第一纳米晶阵列呈阿基米德阵列排布，或等间距矩阵排布，或胡蝶结形排布。

4.根据权利要求1所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，相邻的纳米晶图案单元共用一个或多个第二纳米晶支撑柱，或者相邻纳米晶图案单元的第二纳米晶支撑柱相接触连接。

5.根据权利要求1所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，相邻的纳米晶图案单元之间设置有机纳米屏蔽材料。

6.根据权利要求1所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，所述第一纳米晶阵列的材料为金属纳米材料；所述第二纳米晶支撑柱的材料为绝缘材料。

7.根据权利要求6所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，所述第二纳米晶支撑柱的材料为金属氧化物材料。

8.根据权利要求1所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，所述第二纳米晶支撑柱的材料与所述第一纳米晶阵列的材料相同。

9.根据权利要求1～8任意一项所述的具有空腔的石墨烯基复合薄膜，其特征在于，所述第一纳米晶阵列采用的为纳米线阵列，所述第二纳米晶支撑柱采用的为纳米柱。