[实用新型]靶装置和同位素或中子产生装置有效
申请号: | 201720790798.3 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN207337949U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 杨磊;张学智;高笑菲;张晟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | G21G1/10 | 分类号: | G21G1/10;H05H6/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 同位素 中子 产生 | ||
本实用新型的实施例提供了靶装置和具有该靶装置的同位素或中子产生装置。靶装置包括:壳体,在该壳体中形成反应腔室;至少一部分设置在反应腔室中的靶体;以及形成在壳体中的排放孔,该排放孔用于从反应腔室至少排出汽化的靶体的靶材料。利用靶装置产生同位素或中子的方法包括通过排放孔从反应腔室排出汽化的靶体的靶材料。由此例如可以改善对靶装置的冷却效果。
技术领域
本实用新型的实施例涉及一种用于同位素或中子产生装置的靶装置和具有该靶装置的同位素或中子产生装置。
背景技术
在高能高通量中子产生装置中,靶体中的束流热沉积功率密度极高,其热量移除问题无法使用冷却剂热交换冷却的方法完全得以解决。在这样的工作环境下,固态靶体已无法适应靶体工作的需求。目前的固态靶体基本运行于kw/cm3以下束流耦合环境中。
实用新型内容
本实用新型的实施例的目的是提供一种用于同位素或中子产生装置的靶装置和具有该靶装置的同位素或中子产生装置,由此例如可以改善对靶装置的冷却效果。
本实用新型的实施例提供一种用于同位素或中子产生装置的靶装置,该靶装置包括:壳体,在该壳体中形成反应腔室;至少一部分设置在反应腔室中的靶体;以及形成在壳体中的排放孔,该排放孔用于从反应腔室至少排出汽化的靶体的靶材料。
根据本实用新型的实施例,所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置还包括:引入孔,该引入孔用于将冷却介质引入反应腔室中,且所述排放孔还用于从反应腔室排出对靶体进行冷却后的冷却介质。
根据本实用新型的实施例,所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置还包括:通过管道与排放孔相连的泵。
根据本实用新型的实施例,所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置还包括:通过管道与引入孔和排放孔中的一个相连的回路或泵。
根据本实用新型的实施例,靶体具有柱状形状,且具有使冷却介质进入靶体的散热结构。
根据本实用新型的实施例,所述散热结构包括多孔表面结构、内部开放式多孔结构和毛细流道中的至少一种。
根据本实用新型的实施例,所述的用于同位素或中子产生装置的靶装置还包括:固定进给部件,该固定进给部件用于固定靶体并在靶体消耗预定量后将靶体进给到预定位置。
本实用新型的实施例还提供一种同位素或中子产生装置,该同位素或中子产生装置包括上述的靶装置。
本实用新型的实施例还提供一种利用靶装置产生同位素或中子的方法,所述靶装置包括:壳体,在该壳体中形成反应腔室;至少一部分设置在反应腔室中的靶体;以及形成在壳体中的排放孔,所述方法包括:通过排放孔从反应腔室排出汽化的靶体的靶材料。
根据本实用新型的实施例,靶装置还包括引入孔,所述方法包括通过引入孔将冷却介质引入反应腔室中,且通过排放孔在从反应腔室排出汽化的靶体的靶材料的同时从反应腔室排出对靶体进行冷却后的冷却介质。
根据本实用新型的实施例,靶装置还包括固定进给部件,所述方法包括随着靶体的消耗,将固定于固定进给部件的靶体进给到预定位置。
采用根据本实用新型的实施例的用于同位素或中子产生装置的靶装置,具有该靶装置的同位素或中子产生装置以及利用靶装置产生同位素或中子的方法,例如可以改善对靶装置的冷却效果。
下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1为根据本实用新型的实施例的靶装置的结构示意图。
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