[实用新型]光学调控电磁屏蔽玻璃

权利要求书

1.一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于：其包括:

结构支撑玻璃；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

2.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合金属膜层为：

铬膜层和铜膜层；

氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层；

或铬膜层和金膜层。

3.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的过渡膜层的厚度为50-80nm；所述的屏蔽金属膜层厚度为300-700nm。

4.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的结构支撑玻璃的厚度为0.7-4mm，光学透过率为89％-92％。

5.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，

结构支撑玻璃；

复合减反射膜，附着在所述结构支撑玻璃表面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

6.根据权利要求5所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合减反射膜的单面反射率为0.5％-1.0％。

7.根据权利要求5所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合减反射膜包括：

二氧化硅膜，附着在结构支撑玻璃的另一表面，厚度为60-100nm；

三氧化铝膜，附着在所述二氧化硅膜上，厚度为50-200nm；

钛酸镧膜、钛酸锶膜、三氧化二钽膜或二氧化钛膜，附着在所述三氧化铝膜上，厚度为80-260nm；

氟化镁膜，附着在所述氟化镁膜上，厚度为70-110nm。

8.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，其包括：

结构支撑玻璃，一表面为经防眩处理的亚光面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

9.根据权利要求8所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的亚光面的雾都为2％-20％，光泽度为110-35。