[实用新型]一种复合真空镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜机，具体的说是一种利用复合多炉体真空离子镀膜实现用于工件表面镀膜的复合真空镀膜机。

背景技术

目前应用的真空镀膜设备特别是五金离子镀膜设备都采用单个真空腔体，在腔体中设置溅射源，每次装料卸料都将腔门打开进行操作。操作过程必须经过：抽真空-溅射镀膜-恢复大气三个步骤，整个周期大部分时间用在抽气、前处理、冷却、上下工件这些过程，设备的利用率很低。这种操作过程每个循环真空炉体都将暴露大气，靶材与大气接触将会导致靶材的氧化，腔体会吸附大量的水蒸气及其它杂气，对第二次抽真空带来不便同时会降低镀膜质量和稳定性，对大批量和高要求生产带来不利，目前需要完成复杂的多种膜层同时完成的镀膜工艺无法很好的在同一台机器上一次完成。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术所存在的不足，提供一种利用复合多炉体真空离子镀膜实现用于工件表面镀膜的复合真空镀膜机。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：

一种复合真空镀膜机，包括左炉体组件、中间炉体组件、右炉体组件，各炉体从左至右依序设置并相接；

左炉体组件、右炉体组件与中间炉体组件间各设置有一个插板阀，两插板阀用于将左炉体组件、右炉体组件与中间炉体组件分隔成三个独立空间；

插板阀是是可控活动结构，可进行电控伸缩，进而实现炉体隔离和相连；

左炉体组件包括左端真空炉体、左炉工作架、左炉电弧溅射 源、左炉真空均衡室、左炉主真空抽气装置、左炉低温真空抽气装置，左炉工作架安装在左端真空炉体内；

左炉电弧溅射源安装在左端真空炉体一侧；

左端真空炉体与左炉真空均衡室相接，并在相接处设置有一个档板；

左炉真空均衡室与左炉主真空抽气装置、左炉低温真空抽气装置相连；

左端真空炉体内还设有一个左炉热蒸发源、一个左炉加热器、多个左炉外磁控溅射源；

中间炉体组件包括高真空炉体、高真空炉体真空均衡室、高真空炉主真空抽气装置、高真空炉低温真空抽气装置，高真空炉体、高真空炉体真空均衡室相连，在相接位置上设置有一个档板；

高真空炉体真空均衡室与高真空炉主真空抽气装置、高真空炉低温真空抽气装置相接；

高真空炉体内设置有至少一个高真空炉加热器、多个高真空炉磁控溅射源；

右炉体组件包括右端真空炉体、右炉工作架、右炉电弧溅射源、右炉真空均衡室、右炉主真空抽气装置、右炉低温真空抽气装置，右炉工作架安装在右端真空炉体内；

右炉电弧溅射源安装在右端真空炉体一侧；

右端真空炉体与右炉真空均衡室相接，并在相接处设置有一个档板；

右炉真空均衡室与右炉主真空抽气装置、右炉低温真空抽气装置相连；

右端真空炉体内还设有一个右炉热蒸发源、一个右炉加热器、多个右炉磁控溅射源。

进一步的说，左端真空炉体、高真空炉体、右端真空炉体内各设有充气管，充气管与外部送气装置相连。

进一步的说，左炉工作架与右炉工作架均设置在可移动的托板上，并与托板绝缘，托板承载整个工件架在相邻炉体间移动。

进一步的说，左端真空炉体、高真空炉体、右端真空炉体内均设有若干导电顶杆，导电顶杆可垂直伸缩运动，导电顶杆与炉体间绝缘，导电顶杆用对对工作架进行定位并与工作架电性导通。

本实用新型实施时，由插板阀将多个真空炉体隔离开，多个真空炉体可以独立工作，高真空炉体始终保持高真空状态，多个真空炉体可以单独完成不同性质不同材料的膜层沉积从而完成多种材质复合膜层镀膜在同一台机器快速完成，左端真空炉体与右端真空炉体可独立完成抽真空进出料及部分膜层沉积，高真空炉体始终保持高真空状态并完成主要膜层沉积工作，两端进炉体交替进行进出料抽气工作，从而节省了进出料及抽气放气工作时间，有效的提高了整机工作效率。

本实用新型结构简单、设计合理、结构紧凑，体积小、在工作上效率上以及成品品质上要明显优于现有设备。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。