[实用新型]一种活性反应离子镀膜机

说明书

技术领域

本实有新型涉及弧光放电设备技术领域，具体涉及一种活性反应离子镀膜机。

背景技术

传统的真空镀膜设备扩散泵加热是用耗电量比较高的电阻丝通过烧红烘烤真空锅炉底部，从而加热里面的导热油来使真空泵里面的温度上升来达到设备的工作要求。这种加热方式使得大部分的热量散发到空气中，导致损失大量的热量，使得工作环境温度变高。虽然制作成本低廉，但存在着加热速度慢，容易断丝，加热效能低下，能耗大等诸多缺点。还有导线接入区域温度过高会导致触电区域极易氧化虚接以及人身触电的危险。

因此，针对上述问题，本实用新型提出了一种新的技术方案。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单，设计合理，加热速度快，效率高的活性反应离子镀膜机。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的：

一种活性反应离子镀膜机，包括真空室、加热装置、工件、活化电极、活化电极电源、电子枪、电子枪电源、真空系统、偏压电源和电子枪，所述工件位于真空室内，所述工件上端设有加热装置，所述加热装置连接位于真空室一侧的偏压电源，所述工件正下方设有活化电极，所述活化电极连接活化电极电源，所述活化电极下方设有电子枪，所述电子枪通过发出的电子束与安装在一侧的坩埚相连接，所述活化电极电源和电子枪电源相连接。

进一步地，所述坩埚内填充有金属锭。

进一步地，所述活化电极、活化电极电源、电子枪、电子枪电源和坩埚相配合。

进一步地，所述真空室一侧设有进气孔，所述真空室另一侧设有真空系统。

本实有新型的有益效果是：本实用新型提出的镀膜机结构合理，操作方便，加热速度快，效率高，降低了热能的损失，同时，加热效率好，保证了成膜质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1、真空室，2、工件，3、加热装置，4、偏压电源，5、活化电极，6、活化电极电源，7、电子枪，8、电子枪电源，9、坩埚，10、真空系统，111、进气口。

具体实施方式

下面结合附图说明对本实用新型做进一步地说明。

如图1所示，一种活性反应离子镀膜机，包括真空室1、加热装置3、工件2、活化电极5、活化电极电源6、电子枪7、电子枪电源8、真空系统10、偏压电源4和电子枪7，工件2位于真空室1内，工件2上端设有加热装置3，加热装置3连接位于真空室1一侧的偏压电源4，工件2正下方设有活化电极5，活化电极5连接活化电极电源6，活化电极5下方设有电子枪7，电子枪7通过发出的电子束与安装在一侧的坩埚9相连接，活化电极电源6和电子枪电源8相连接。

在本技术方案中，坩埚9内填充有金属锭。

在本技术方案中，活化电极5、活化电极电源6、电子枪7、电子枪电源8和坩埚9相配合。

在本技术方案中，真空室1一侧设有进气孔11，真空室1另一侧设有真空系统10。

工作原理为：工件经清洗入炉后抽真空。当真空度达到6×10-3Pa后，开启烘烤加热电源，对工件进行加热。达到一定温度后通入氩气，真空度降至2～3Pa，接通工件偏压电源，电压调至1000V。此时产生辉光放电，获得氩离子。氩离子在负偏压电场的作用下，对工件进行轰击净化。开启活化极电源、关闭氩气，通入反应气体氮气，真空度调至(2～5)×10-2Pa。工作偏压仍为1000V。最后接通电子枪电源。一般枪电压10kV，束流0.3～1A。电子束达到坩埚后，其动能转为热能将金属加热、蒸发，此时工件和活化电极上都产生辉光。随着电子束电流的增加和活化极电压的升高，辉光强度增大、活化极电流增大、工件偏流增大。活化极电流可达15～40A，活化极电压50～80V。调整适当的参数，可以获得优质的氮化钛等硬质涂层。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。