[实用新型]一种电子元件生产的离子注入装置

权利要求书

1.一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：包括离子源(1)，所述离子源(1)上端安装有离子喷枪(2)，所述离子源(1)上端连接有离子通道(3)，所述离子通道(3)上设置有离子过滤孔隙(4)，所述离子过滤孔隙(4)右端设置有聚焦器(5)，所述聚焦器(5)右端设置有磁镜(6)，所述磁镜(6)右端连接有离子加速器(7)，所述离子加速器(7)内设置有晶片夹具(8)；

所述晶片夹具(8)包括基板(9)，所述基板(9)内设置有晶片插槽(10)，所述基板(9)内设置有若干个遮挡凹槽(11)，所述遮挡凹槽(11)内插入遮挡板(12)，所述遮挡板(12)与遮挡凹槽(11)可拆卸连接。

2.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：所述聚焦器(5)右端设置有两个静电偏转器(13)，所述静电偏转器(13)相互平行设置。

3.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：所述离子通道(3)内设置有折射段(14)，所述折射段(14)为圆弧形结构。

4.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：所述聚焦器(5)内部设置有四个聚焦磁铁(15)。

5.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：所述晶片插槽(10)内部设置有硅胶垫片(16)，所述硅胶垫片(16)上设置有防滑纹路(17)。

6.根据权利要求1所述的一种电子元件生产的离子注入装置，其特征在于：所述基板(9)下端设置有旋转轴(18)。