[实用新型]一种研磨设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及加工设备领域，特别是一种研磨设备。

背景技术

现有的研磨设备主要通过皮带安装在旋转机构上面，电机转动通过二流体水气加压的方式来实现研磨。如图1所示，上下都有安装相同的机构，分别为上研磨和下研磨，上研磨带1安装在上机构上，旋转主动轮6旋转，下研磨带2安装在下机构上，旋转主动轮5旋转，上下水气混合块4通过给研磨带加压的方式去控制研磨力度和效果，7为玻璃传送辊传送玻璃到研磨位置，3为液晶玻璃。

现有技术问题就是水气压力不恒定，导致液晶玻璃的受力不均匀，影响研磨效果。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，提供一种研磨设备，旨在解决现有研磨设备压力不恒定，导致液晶玻璃的受力不均匀，影响研磨效果的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种研磨设备，包括基台、滑动安装在基台上的定位夹具以及安装在基台上的研磨机构，所述研磨机构包括气缸和带有旋转研磨盘的研磨部，所述气缸与研磨部传动连接，可驱动研磨部上的研磨盘向下移动压紧定位夹具上的待研磨部。

进一步地，所述研磨部还包括滑动板、研磨电机、转轴以及用于安装研磨盘的固定盘，所述滑动板可滑动的安装在所述基台上，所述研磨电机固定在滑动板上，所述转轴可转动的安装在滑动板上，所述固定盘安装在转轴底端，所述研磨电机与转轴传动连接，可驱动转轴旋转；所述气缸与滑动板传动连接，可驱动滑动板上下移动。

进一步地，所述研磨盘通过销孔配合和磁铁吸附的方式安装在固定盘上。

进一步地，所述转轴内设置有第一水流通道，所述固定盘上设置有第二水流通道，所述研磨盘底部设置有出水孔，所述第一水流通道、第二水流通道、出水孔依次连通，所述转轴顶端设置有水管接头。

进一步地，所述研磨部还包括用于调节研磨盘与基台平行度的微调部，所述微调部安装所述滑动板上。

进一步地，所述研磨设备还包括与气缸气动连接的电器比例阀，所述电器比例阀精确控制气缸对待研磨部的压力。

进一步地，所述研磨机构还包括升降部，所述升降部包括升降电机、丝杆以及升降板，所述升降电机通过立板安装在所述基台上，所述升降板与丝杆螺纹连接，所述升降电机与丝杆传动连接，可驱动丝杆旋转，带动升降板上下移动；所述气缸和研磨部均安装在升降板上。

进一步地，所述研磨设备还包括行程开关，所述行程开关分别设置在升降板的两个极限位置。

进一步地，所述定位夹具通过滑轨可滑动的安装在基台上，所述定位夹具为真空吸附夹具。

进一步地，所述定位夹具通过真空气管与真空过滤器和破真空气路连通，所述真空气管装在拖链内部。

相对于现有技术，本实用新型提供的一种研磨设备，气缸可驱动研磨部上的研磨盘向下移动压紧定位夹具上的待研磨部进行研磨。通过精确的控制气缸的压力来实现研磨压力的恒定，使待研磨部的受力均匀，大大提高待研磨部的研磨效果。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1是现有技术提供的研磨设备结构示意图；

图2是本实用新型提供的研磨设备立体示意图；

图3是图2中研磨部的结构示意图；

图4是图3中研磨盘的底部示意图。

具体实施方式

现结合附图，对本实用新型的较佳实施例作详细说明。

如图2所示，本实用新型提供一种研磨设备，包括基台100、滑动安装在基台100上的定位夹具200以及安装在基台100上的研磨机构300。研磨机构300包括气缸310和带有旋转研磨盘321的研磨部320，气缸310与研磨部320传动连接，可驱动研磨部320上的研磨盘321向下移动压紧定位夹具200上的待研磨部进行研磨。通过精确的控制气缸310的压力来实现研磨压力的恒定，使待研磨部的受力均匀，大大提高待研磨部的研磨效果。在本实施例中，研磨设备还包括与气缸310气动连接的电器比例阀(图中未示出)，电器比例阀精确控制气缸310对待研磨部的压力，待研磨部为液晶玻璃。