[实用新型]自清洁偏光片有效

专利信息
申请号: 201720707922.5 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN207301387U 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 陈玉 申请(专利权)人: 深圳市海创光电有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/18;G02F1/1335
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 代理人: 汤东凤
地址: 518102 广东省深圳市宝安区西乡*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洁 偏光
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及偏光片,尤其涉及一种自清洁偏光片。

背景技术

偏光片是一种多层高分子材料复合而成的光学薄膜,广泛应用在LCD显示领域。

现实环境中,偏光片所处环境难以完全隔离水、氧化物颗粒和细菌的滋生,因此,长期使用状态下,偏光片表面沉积的氧化物颗粒和细菌会导致偏光片发生氧化或者还原反应,导致屏幕出现斑点。

另一方面,普通液晶显示器面对眼睛的那张偏光片是磨砂处理的,以消散表面反光,并且把光散射以增加液晶显示器的视角。另一方面,任何散射都会造成光线的损失,偏光片越接近0度视角,光的利用率越高,所以用平光的偏光片替代磨砂的偏光片后,投影机到墙上的亮度会大幅度提高。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型提出了一种具有自清洁作用的偏光片。

本实用新型的技术方案是这样实现的:本实用新型提供了一种自清洁偏光片,其包括PVA薄膜、第一TAC薄膜、第二TAC薄膜、压敏胶层和离型膜,第一TAC薄膜、第二TAC薄膜分别设置在PVA薄膜上、下表面,第二TAC薄膜表面依次设置有压敏胶层和离型膜,所述第一TAC薄膜表面设置有一层纳米光催化薄膜。

在以上技术方案的基础上,优选的,所述纳米光催化薄膜采用化学气相沉积法或物理气相沉积法与第一TAC薄膜表面紧密贴合在一起。

在以上技术方案的基础上,优选的,所述纳米光催化薄膜为纳米二氧化钛薄膜。

在以上技术方案的基础上,优选的,所述纳米光催化薄膜厚度为10-50um。

在以上技术方案的基础上,所述第一TAC薄膜、PVA薄膜第二TAC薄膜、压敏胶层和离型膜依次复合而成。

本实用新型的自清洁偏光片相对于现有技术具有以下有益效果:

(1)通过设置纳米光催化薄膜,可以对粘附在第一TAC薄膜表面的氧化物颗粒和细菌进行光催化分解,从而起到自清洁作用,更加节能环保;

(2)采用化学气相沉积法或物理气相沉积法,从而控制纳米光催化薄膜的表面粗糙度,从而控制光透过率,在保证透光的前提下改善光散射以增加液晶显示器的视角。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型自清洁偏光片的横截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施方式中的附图,对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示,本实用新型的自清洁偏光片,其包括PVA薄膜1、第一TAC薄膜2、第二TAC薄膜3、压敏胶层4、离型膜5和纳米光催化薄膜6。

PVA薄膜1,即聚乙烯醇薄膜,其主要产生偏光作用。生产过程中,先将PVA膜在碘溶液中进行染色后拉伸使其具有偏光效果,拉伸干燥后PVA膜会变薄和脆,所以两边贴合第一TAC薄膜2和第二TAC薄膜3。

第一TAC薄膜2和第二TAC薄膜3,即三醋酸纤维素薄膜,主要起到保护PVA薄膜1的作用,分别设置在PVA薄膜1上、下表面,其厚度可根据用途而适当设定,厚度一般为50-200um。

压敏胶层4,设置在第二TAC薄膜3,粘接离型膜5。任何合适的压敏粘着剂可作为压敏胶层4,优选使用聚丙烯酸类粘着剂,因其可以提供优良的耐候性能,其厚度可根据用途而适当设定,厚度一般为10-40um。

离型膜5,通过压敏胶层4与第二TAC薄膜3复合在一起。具体的,所述第一TAC薄膜2、PVA薄膜1、第二TAC薄膜3、压敏胶层4和离型膜5依次复合而成。

纳米光催化薄膜6,设置在第一TAC薄膜2表面。具体的,采用化学气相沉积法或物理气相沉积法与第一TAC薄膜2表面紧密贴合在一起。如此,可控制纳米光催化薄膜6厚度和表面粗糙度,从而控制光透过率与表面反射率。具体的,所述纳米光催化薄膜6为纳米二氧化钛薄膜。优选的,所述纳米光催化薄膜6厚度为10-50um。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施方式而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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