[实用新型]ITO触摸屏用折射率匹配基材

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种ITO触摸屏用折射率匹配基材。

背景技术

现有技术中，ITO触摸屏用折射率匹配基材，通常包括基材、设置于基材上表面的粘接层、粘接层上方的高折射率层、设置于基材下表面的加硬层。其中高折射率层用于ITO导电层上的蚀刻图案隐形化，使用的材料通常为五氧化三铌或二氧化钛，厚度5-15nm; 粘接层为二氧化硅或是与氧化硅的混合物，厚度：5-20nm，该基材相对较脆，在触摸屏后段生产加工易发生折伤、龟裂等现象，导致产品良品率低下。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种ITO触摸屏用折射率匹配基材。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种ITO触摸屏用折射率匹配基材，包括PET基材层、分别涂布在所述PET基材层上下表面的上涂料层与下涂料层、涂布在所述上涂料层上表面起到消影作用的消影层、涂布在所述下涂料层下表面起到保护PET基材层的加硬层，所述消影层为含有纳米级二样化锆的聚甲基丙烯酸甲酯树脂硬化层。

在某些实施方式中，所述消影层折射率η为1.6~1.7，厚度为0.5~3um。

在某些实施方式中，所述上涂料层与所述下涂料层的材料分别为聚酯、聚氨酯或聚丙烯酸树脂。

在某些实施方式中，所述上涂料层的折射率η为1.6~1.7，厚度为30~500nm。

在某些实施方式中，所述下涂料层的折射率η为1.5~1.6，厚度为10~150nm。

在某些实施方式中，所述加硬层的材料为UV固化型丙烯酸。

在某些实施方式中，所述加硬层的折射率η为1.5~1.6，厚度为0.5~3um。

本实用新型的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型提供了一种新的ITO触摸屏用折射率匹配基材的方案，消影层能使得ITO导电层上的蚀刻图案隐形化，整体柔韧性、弯曲性好，并且各层之间具均有良好的粘接性、不易脱层。

附图说明

附图1为ITO触摸屏用折射率匹配基材示意图；

其中:1、PET基材层；2、上涂料层；3、下涂料层；4、消影层；5、加硬层。

具体实施方式

如附图1所示，一种ITO触摸屏用折射率匹配基材，包括PET基材层1、分别涂布在所述PET基材层1上下表面的上涂料层2与下涂料层3、涂布在所述上涂料层2上表面起到消影作用的消影层4、涂布在所述下涂料层3下表面起到保护PET基材层1的加硬层5，所述消影层4为含有纳米级二样化锆的聚甲基丙烯酸甲酯树脂硬化层。

消影层4折射率η为1.6~1.7，厚度为0.5~3um，使得ITO导电层上的蚀刻图案隐形化。

上涂料层2与下涂料层3的材料分别为聚酯、聚氨酯或聚丙烯酸树脂等，上涂料层2的折射率η为1.6~1.75，厚度为30~500nm。下涂料层3的折射率η为1.5~1.6，厚度为10~150nm。

加硬层5的全称是Antiblocking硬化层，其材料主要是UV固化型丙烯酸。加硬层5的折射率η为1.5~1.6，厚度为0.5~3um。

本实用新型提供了一种新的ITO触摸屏用折射率匹配基材，在其上方溅射二氧化硅构成绝缘层、氧化铟锡构成ITO导电层等，可以组成电容式触摸屏导电膜。消影层能使得ITO导电层上的蚀刻图案隐形化，整体柔韧性、弯曲性好，并且各层之间具均有良好的粘接性、不易脱层。

本实用新型的各层所使用的材料都是现有技术，并不涉及材料的发明创造。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。