[实用新型]一种二维调整测量基座有效
| 申请号： | 201720650424.1 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN207036090U | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 田甜;余靖华;陈一峰 | 申请（专利权）人： | 武汉船舶职业技术学院;田甜 |
| 主分类号： | G01C3/02 | 分类号： | G01C3/02 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)11427 | 代理人： | 陈娟 |
| 地址： | 430050 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 二维 调整 测量 基座 | ||
【权利要求书】：
1.一种二维调整测量基座，其特征在于：包括管座、转盘座、转盘和支座，所述管座包括基座以及设置在基座上方的底板，所述底板上左右对称设有轴座，所述底板一侧设有调整座，所述基座、底板与调整座一体成型，所述底板上设有转盘座，所述转盘座上设有转盘，所述转盘上对称设有两个支座，两个所述支座之间设有X轴。
2.根据权利要求1所述的一种二维调整测量基座，其特征在于：所述轴座通过第一定位螺钉固定在底板上。
3.根据权利要求1所述的一种二维调整测量基座，其特征在于：所述调整座通过第二定位螺钉固定在底板上。
4.根据权利要求1所述的一种二维调整测量基座，其特征在于：所述调整座上设有调节孔，所述转盘上一侧设有调节柱，所述调节柱插入到调节孔内。
5.根据权利要求1所述的一种二维调整测量基座，其特征在于：所述支座上设有第一调整螺钉。
6.根据权利要求1所述的一种二维调整测量基座，其特征在于：所述调整座两侧对称设有第二调整螺钉。
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