[实用新型]一种防止反应腔尾管阻塞的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体生产设备领域，特别是涉及一种防止反应腔尾管阻塞的装置。

背景技术

随着社会的发展，人们对半导体技术的依赖越来越强。航空，电子，通信等一系列与生活有关的物件都随着半导体技术发展而兴起，尤其对于半导体器件的制造企业而言，设备的先进性和环保型是衡量一个企业综合竞争力的标志。在不同的先进制程中，不仅需要先进的工艺作为支撑，而且更需要成熟稳定的设备处理作为基础。

在一系列的工艺生产中我们经常会用到很多气体，例如SiH₄、NH₃、HCl、HF等，这些气体通常经过管路进入反应炉，这些气体在反应炉中反应并在晶圆上生长形成薄膜(film)，这些薄膜结构为即将进行的下一道工序做好准备。但是在反应炉中生长形成正常薄膜的同时，例如化学气相沉积工艺中，反应气体经高温解离产生反应，形成副产品。这类副产品的成份主要有氯化铵、氯化镓，其沉积在工艺腔室的内壁、真空管以及副产品收集器中，并且不断累积形成固状粉尘(power)。然而，固状粉尘的存在极易造成设备运转周期的利用，而且对产品的质量以及设备的使用寿命都会产生很大的影响。

为了使得工艺反应腔体具有良好的环境状态，需要定期对工艺腔室以及其连接的真空管进行清理，以便去除内部沉积的副产品固状粉尘。在经过反应腔进行反应后，这些粉尘副产品在气体的带动下经过尾管，最后统一处理。但是，由于尾管的温度比反应腔的温度低，因此，这些粉尘很容易在经过尾管时在尾管里沉积下来，形成结晶体，甚至会导致尾管阻塞。

现有技术中并没有合适的清理工具，操作人员通常使用螺丝刀等锐器并配合锤子敲打，来去除尾管中的固状粉尘结晶物，但是这种方法极易对设备造成类似于划痕的损伤，并且效率低下，需要耗费大量人力和时间，加重操作员的负担，同时由于这类固状粉尘具有毒性，飞扬的粉尘也对操作员的健康和封装室的环境造成污染。

因此，提供一种防止反应腔尾管阻塞的装置实属必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种防止反应腔尾管阻塞的装置，用于解决现有技术中反应腔尾管易被反应副产物阻塞的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种防止反应腔尾管阻塞的装置，所述装置包括至少一根气体通入管道，所述气体通入管道安装在所述反应腔的尾管上，通过所述气体通入管道往所述尾管中通入具有一定温度的保护性气体。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，在所述尾管上安装有1～4根气体通入管道。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述保护性气体为惰性气体。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述保护性气体为氮气或者氩气。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述保护性气体的温度在50～80℃。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述保护性气体的流速大于从所述反应腔进入所述尾管中气体的流速。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述气体通入管道均匀分布在所述尾管上。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述气体通入管道安装在所述尾管中间或者靠近所述反应腔的位置上。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述装置还包括温控系统，通过所述温控系统控制所述保护性气体的温度。

作为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的一种优化的结构，所述尾管的尾端依次连接过滤装置和气体处理装置。

如上所述，本实用新型的防止反应腔尾管阻塞的装置，包括：至少一根气体通入管道，所述气体通入管道安装在所述反应腔的尾管上，通过所述气体通入管道往所述尾管中通入具有一定温度的保护性气体。本实用新型通过在尾管中通入具有一定温度的保护性气体，加速反应气体的流动，从而可以减少和降低反应气体中副产物在反应腔尾管的沉积和结晶，进而减少对反应腔体尾管的清理频率，减少人力物力，增加设备的使用寿命。

附图说明

图1显示为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置一种实施例示意图。

图2显示为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置另一实施例示意图。

图3显示为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置再一实施例示意图。

图4显示为本实用新型防止反应腔尾管阻塞的装置的整体示意图。