[实用新型]多晶硅用坩埚有效
| 申请号： | 201720622449.0 | 申请日： | 2017-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN207047366U | 公开（公告）日： | 2018-02-27 |
| 发明（设计）人： | 翟蕊;翁林梁;李娟 | 申请（专利权）人： | 浙江昱辉阳光能源有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 314117 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多晶 坩埚 | ||
【权利要求书】：
1.一种多晶硅用坩埚，其特征在于，内壁涂层包括：
复合于坩埚侧壁和底面的氮化硅涂层；
复合于坩埚侧壁氮化硅涂层表面的颗粒层；
复合于颗粒层表面的第二氮化硅涂层；
所述第二氮化硅涂层具有若干孔眼，使颗粒层裸露。
2.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，每两个相邻所述孔眼的间隔为0.3-5mm。
3.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述孔眼的直径为0.1-2mm。
4.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述孔眼呈阵列分布。
5.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，还包括：复合于坩埚底面氮化硅涂层表面的第三氮化硅涂层。
6.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述氮化硅涂层的厚度为10μm-1mm。
7.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述颗粒层的厚度为0.5-2mm。
8.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述第二氮化硅涂层的厚度为10μm-500μm。
9.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述颗粒层的颗粒粒径为20-70目。
10.根据权利要求1所述的多晶硅用坩埚，其特征在于，所述颗粒层为硅颗粒、氧化硅颗粒、硅粉和氧化硅粉中的一种或多种。
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