[实用新型]熔体均匀化处理的切割破散装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及金属材料加工技术领域，特别涉及一种熔体均匀化处理的切割破散装置。

背景技术

金属熔体在加工过程中需要搅拌，以促进合金各组分的溶解或者相的均质化，利用搅拌来抑制和折断两种基体结晶机制，从而实现高效优质的熔体均匀化处理。而目前的搅拌装置都会存在搅拌不均匀，影响产品质量的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种搅拌切割更加均匀的熔体均匀化处理的切割破散装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了熔体均匀化处理的切割破散装置，包括旋转轴，在旋转轴下端设置切割破散装置，旋转轴上端由电机带动转动，其中旋转轴下端伸入保温容腔内，保温容腔上方设置保护罩，所述切割破散装置包括设置在旋转轴端部的一圈大切割片，其中多个大切割片两个为一组，上下交叉错开。本实用新型的熔体均匀化处理的切割破散装置，在旋转轴下端设置切割破散装置，其中切割破散装置的一圈大切割片两个为一组，上下交叉错开，两个大切割片一个向上倾斜设置，一个向下倾斜设置，增加切割破散的体积，并且一组中的两个大切割片在旋转轴上的安装端也在旋转轴的圆周上错开一点设置，多组大切割片协调运转，可以更好的分散切割熔融金属熔体。

进一步改进在于，在旋转轴上位于一圈大切割片的上方和下方，还分别设置有一圈交叉错开设置的小切割片，小切割片的长度小于大切割片的长度，小切割片设置在大切割片的间隙处，并且多个小切割片两个为一组，上下交叉错开。在大切割片的间隙处的上方和下方还设置小的切割片，辅助分散切割，将大切割片分散的大块进一步切割成小块，保证切割分散的效果，从而实现高效优质的熔体均匀化处理。

其中电机安装在可调节升降的升降导轨上，保温容腔下方也设置升降台；保护罩四周设置多个可升降的挂壁杆，所述挂壁杆上端弯曲部挂在保温容腔的侧壁上，下端与保护罩边缘固定，在保护罩上设置通气孔。保护罩可以位于液面的上方或者下方，利用保护罩周边的升降挂壁杆可以方便调节保护罩的高度。

其中大切割片两个为一组，一端端部错开设置在旋转轴上，另一端一个向上倾斜设置，一个向下倾斜设置。小切割片也是两个为一组，一端端部错开设置在旋转轴上，另一端一个向上倾斜设置，一个向下倾斜设置，其中上方的小切割片向下倾斜时伸入下方两个大切割片的中间位置，下方的小切割片向上倾斜时伸入上方两个大切割片的中间位置。

本实用新型的熔体均匀化处理的切割破散装置，结构新颖合理，在旋转轴的转动以及上下移动中，可以将金属熔融熔体很好的切割破散均匀，其中大切割片和小切割片相互协调运作，熔体均匀化处理效果好，效率高。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型切割破散装置的俯视图；

其中，1-旋转轴，2-电机，3-保温容腔，4-保护罩，5-大切割片，6-小切割片，7-挂壁杆，8-通气孔。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选技术方案。

如图所示，本实用新型的熔体均匀化处理的切割破散装置，包括旋转轴1，在旋转轴1下端设置切割破散装置，旋转轴1上端由电机2带动转动，其中旋转轴1下端伸入保温容腔3内，保温容腔3上方设置保护罩4，所述切割破散装置包括设置在旋转轴1端部的一圈大切割片5，其中多个大切割片5两个为一组，上下交叉错开。

进一步的，在旋转轴1上位于一圈大切割片5的上方和下方，还分别设置有一圈交叉错开设置的小切割片6，小切割片6的长度小于大切割片5的长度，小切割片6设置在大切割片5的间隙处，并且多个小切割片6两个为一组，上下交叉错开。

其中电机2安装在可调节升降的升降导轨上，保温容腔3下方也设置升降台；保护罩4四周设置多个可升降的挂壁杆7，所述挂壁杆7上端弯曲部挂在保温容腔3的侧壁上，下端与保护罩4边缘固定，在保护罩4上设置通气孔8。

其中大切割片两个为一组，一端端部错开设置在旋转轴上，另一端一个向上倾斜设置，一个向下倾斜设置。小切割片也是两个为一组，一端端部错开设置在旋转轴上，另一端一个向上倾斜设置，一个向下倾斜设置，其中上方的小切割片向下倾斜时伸入下方两个大切割片的中间位置，下方的小切割片向上倾斜时伸入上方两个大切割片的中间位置。