[实用新型]双轴倾斜活动装置、照相装置、光学装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201720613199.4 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN206788528U 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 寺嶋厚吉 申请(专利权)人: 新思考电机有限公司
主分类号: G03B5/00 分类号: G03B5/00;H02K41/035
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 喻学兵
地址: 314112 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 倾斜 活动 装置 照相 光学 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种双轴倾斜活动装置,其特征在于,具有:

内部保持部,

位于所述内部保持部周边的外部保持部,

被所述内部保持部以及所述外部保持部联结、使所述内部保持部对于所述外部保持部被保持为绕X轴以及绕与所述X轴垂直相交的Y轴自由倾斜活动的中间部,

固定于所述内部保持部上的磁铁,

固定于外部保持部上、配置于面对所述磁铁的位置的多个线圈;

其中,

所述磁铁沿所述X轴与所述Y轴之间的方向磁化。

2.根据权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述线圈配置为流向面对所述磁铁的部分的电流为与所述X轴方向或所述Y轴方向。

3.根据权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述磁铁形成为四条边向所述X轴方向或者所述Y轴方向延长的四边形,所述线圈沿所述磁铁的各条边配置。

4.根据权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述线圈的面对所述磁铁的对面侧配置有磁性体。

5.根据权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述磁铁具有沿与所述X轴以及所述Y轴垂直相交的Z轴方向重叠的多个磁铁片,所述磁铁片的磁化方向相反。

6.根据权利要求5所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述线圈为所述线圈的整个面与所述磁铁片相对。

7.根据权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,其特征在于:所述磁铁为圆形状。

8.一种照相装置,其特征在于,具备:

将通过透镜的来自被摄体的光线接受到摄像元件的透镜模块,以及

如权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,所述透镜模块固定于所述内部保持部或者外部保持部上。

9.一种照相装置,其特征在于,具备:

使来自被摄体的光线的光路发生折射的折射元件,

接收来自所述折射元件的光线的摄像元件,以及

如权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,所述折射元件固定于所述内部保持部或者外部保持部上。

10.一种照相装置,其特征在于,具备:

使来自被摄体的光线聚集的透镜,

接收来自所述透镜的光线的摄像元件,以及

如权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,所述摄像元件固定于所述内部保持部或者外部保持部上。

11.一种光学装置,其特征在于,具备:

通过光线的光学元件,以及

如权利要求1所述的双轴倾斜活动装置,该光学元件固定于所述内部保持部或者外部保持部上。

12.一种电子装置,其特征在于,具备:

如权利要求8至10中任意一项所述的照相装置或者如权利要求11所述的光学装置。

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